[发明专利]一种三氧化钨-钒酸铋-有机酸复合光电极及其制备方法和应用有效
| 申请号: | 202210405916.X | 申请日: | 2022-04-18 |
| 公开(公告)号: | CN114703500B | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
| 发明(设计)人: | 熊贤强;梅优阳;蔡小龙;褚雨潇;武承林;韩得满;张晓 | 申请(专利权)人: | 台州学院;台州市生物医化产业研究院有限公司 |
| 主分类号: | C25B11/067 | 分类号: | C25B11/067;C25B11/091;C25B1/04;C25B1/55 |
| 代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 申素霞 |
| 地址: | 318000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 氧化钨 钒酸铋 有机酸 复合 电极 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明提供了一种三氧化钨‑钒酸铋‑有机酸复合光电极及其制备方法和应用,属于功能材料技术领域。本发明提供的三氧化钨‑钒酸铋‑有机酸复合光电极包括基底、负载在所述基底表面的WOsubgt;3/subgt;‑BiVOsubgt;4/subgt;复合膜以及修饰在所述WOsubgt;3/subgt;‑BiVOsubgt;4/subgt;复合膜表面的有机酸。本发明采用与BiVOsubgt;4/subgt;具有强络合作用的有机酸对WOsubgt;3/subgt;‑BiVOsubgt;4/subgt;复合光电极进行修饰,使有机酸均匀络合在WOsubgt;3/subgt;‑BiVOsubgt;4/subgt;复合光电极表面,能够减少WOsubgt;3/subgt;‑BiVOsubgt;4/subgt;复合光电极的溶解,降低WOsubgt;3/subgt;‑BiVOsubgt;4/subgt;复合光电极表面态浓度,并加速界面空穴注入效率,从而使所得WOsubgt;3/subgt;‑BiVOsubgt;4/subgt;‑有机酸复合光电极具有高度的稳定性和较好的光电催化水分解性能。
技术领域
本发明涉及功能材料技术领域,尤其涉及一种三氧化钨-钒酸铋-有机酸复合光电极及其制备方法和应用。
背景技术
光电催化水分解技术能够利用太阳能将水分解为氢气,这为解决当前的能源危机提供了有效途径。但是,半导体光电极的“太阳能-化学能”转化效率依然很低,目前光电催化技术的开发还是处于实验室阶段,难以大规模应用。为此,大量科研工作者专注于如何提高光电极的活性,目前关于光电极的活性提升已经有大量研究报道。事实上,对于光电催化技术的应用,除了光电极的活性,光电极的稳定性也是评价光电极应用的一个关键参数。但是,由于化学腐蚀和光腐蚀,大部分光电极难以实现长时间稳定的光电催化水分解。
以WO3-BiVO4复合光电极为例,该复合光电极利用II型异质结策略,能够很好的促进光生载流子分离,并能够实现高效水分解产氧。因此,WO3-BiVO4复合光电极有望成为一种理想的光电极体系。但是,研究发现该复合光电极的稳定性较差,在电解质溶液中该复合光电极的光电流密度持续下降,从而极大地限制了其实际应用。
发明内容
本发明的目的在于提供一种三氧化钨-钒酸铋-有机酸复合光电极及其制备方法和应用,本发明采用有机酸对WO3-BiVO4复合光电极进行修饰,所得三氧化钨-钒酸铋-有机酸复合光电极稳定性高,且光电催化水分解性能优异。
为了实现上述发明目的,本发明提供以下技术方案:
本发明提供了一种三氧化钨-钒酸铋-有机酸复合光电极,包括基底、负载在所述基底表面的WO3-BiVO4复合膜以及修饰在所述WO3-BiVO4复合膜表面的有机酸。
优选地,所述WO3-BiVO4复合膜包括WO3膜以及生长在所述WO3膜表面的BiVO4纳米颗粒,所述WO3膜由WO3纳米板形成,所述WO3纳米板垂直生长在所述基底的表面,所述BiVO4纳米颗粒上修饰有所述有机酸。
优选地,所述WO3-BiVO4复合薄膜的厚度为1~100μm,所述WO3膜的厚度为0.5~10μm。
优选地,所述WO3纳米板的长为400~1500nm,宽为400~1500nm,高为50~200nm;所述BiVO4纳米颗粒的粒径为100~200nm。
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