[发明专利]真空溅镀机用的遮挡装置

说明书

本发明公开了一种真空溅镀机用的遮挡装置，真空溅镀机内安装有主动轮，主动轮上卷绕有PI膜，遮挡装置包括：第一固定座、第二固定座、第一调整座、第二调整座、第一挡板和第二挡板，第一固定座和第二固定座均安装在真空溅镀机的舱壁上，第一调整座与第一固定座可拆卸连接，第二调整座与第二固定座可拆卸连接，第一挡板安装在第一调整座上，第二挡板安装在第二调整座上，主动轮的一端放置在第一挡板上，主动轮的另一端放置在第二挡板上，第一调整座和第二调整座均位于主动轮的下方。本发明通过第一调整座、第二调整座、第一挡板和第二挡板可以阻挡辉光产生的金属离子，减少金属离子沉积在主动轮两端，可以减少清洁时间，提高PI膜的良率。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种真空溅镀机用的遮挡装置。

背景技术

真空溅镀机是一种在真空环境下，通入适当的惰性气体作为媒介，靠惰性气体加速撞击靶材，使靶材表面原子被撞击出来，在产品表面形成镀膜的设备。

在COF载带的生产工艺中，会涉及到溅镀工艺，将PI膜作为基材，在PI膜（聚酰亚胺薄膜）表面溅镀金属层，PI膜可以卷绕在主动轮上，主动轮可以由电机驱动转动，从而实现PI膜的溅镀、输送。但是，由于PI膜的宽度是小于主动轮的长度的，这就导致主动轮表面没有覆盖PI膜的地方会受到辉光影响，主动轮表面会沉积一定的金属离子。金属离子如果沉积的太多，则会影响PI膜的质量，例如，损坏PI膜或者影响PI膜的溅镀效果等等。目前，主要通过工作人员对主动轮表面进行定期清理的方式来减少辉光的影响，这种方式耗费时间长，且不易操作。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：为了解决现有技术中PI膜溅镀时容易被辉光影响导致产品良率下降的技术问题，本发明提供一种真空溅镀机用的遮挡装置，能够对主动轮的两端进行防护，减少辉光沉积在主动轮表面，提高产品良率。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种真空溅镀机用的遮挡装置，真空溅镀机内安装有主动轮，所述主动轮上卷绕有PI膜，遮挡装置包括：第一固定座、第二固定座、第一调整座、第二调整座、第一挡板和第二挡板，所述第一固定座和所述第二固定座均安装在真空溅镀机的舱壁上，所述第一调整座与所述第一固定座可拆卸连接，所述第二调整座与所述第二固定座可拆卸连接，所述第一挡板安装在所述第一调整座上，所述第二挡板安装在所述第二调整座上，所述主动轮的一端放置在所述第一挡板上，所述主动轮的另一端放置在所述第二挡板上，所述第一调整座和第二调整座均位于所述主动轮的下方。本发明通过第一调整座、第二调整座、第一挡板和第二挡板可以阻挡辉光产生的金属离子，减少金属离子沉积在主动轮两端，可以减少清洁时间，提高PI膜的良率。

进一步地，所述遮挡装置还包括：第一遮挡板和第二遮挡板，所述第一遮挡板的一端与所述第一固定座连接，所述第一遮挡板的另一端与所述第二固定座连接；所述第二遮挡板的一端与所述第一固定座连接，所述第二遮挡板的另一端与所述第二固定座连接。第一挡板和第二挡板可以对主动轮的前后方进行防护，第一遮挡板和第二遮挡板可以对主动轮的左右两侧进行防护，第一调整座和第二调整座可以对主动轮的下方进行防护。

进一步地，所述第一遮挡板和第二遮挡板均与所述主动轮的轴线A平行设置，且所述第一遮挡板和第二遮挡板分别位于所述轴线A的两侧。

进一步地，所述遮挡装置还包括：第一垫块组和第二垫块组，所述第一垫块组固定在所述第一固定座上，所述第二垫块组固定在所述第二固定座上；所述第一遮挡板的一端和第二遮挡板的一端均与所述第一垫块组连接，所述第一遮挡板的另一端和第二遮挡板的另一端均与所述第二垫块组连接。第一垫块组和第二垫块组可以缩短第一遮挡板和第二遮挡板与主动轮表面之间的距离，进一步阻挡金属离子沉积。