[发明专利]一种执行器同步扫描的控制方法、上位机以及控制系统在审
申请号: | 202210327161.6 | 申请日: | 2022-03-30 |
公开(公告)号: | CN114624965A | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 牛岩;付纯鹤;苏鹏方;杜婷婷;徐圆圆 | 申请(专利权)人: | 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 于彬 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 执行 同步 扫描 控制 方法 上位 以及 控制系统 | ||
本申请提供了一种执行器同步扫描的控制方法、上位机以及控制系统,所述控制方法包括:获取参与扫描的各个子系统执行器的扫描时间区间;根据获取到的多个扫描时间区间之间的时间交叉关系,确定扫描时间值,并根据扫描时间值,确定出准备时间值;根据扫描时间值以及准备时间值,同时向各个子系统执行器下发扫描控制指令,控制多个子系统执行器对待曝光晶圆进行同步扫描。采用本申请提供的技术方案能够通过获取扫描时间区间与准备时间区间,确定出扫描时间值,以及准备时间值,并通过扫描时间值时间与准备时间值控制多个子系统执行器对待曝光晶圆进行同步扫描,从而在保障曝光图像质量的同时提高晶圆曝光的工作效率。
技术领域
本申请涉及半导体技术领域,尤其是涉及一种执行器同步扫描的控制方法、上位机以及控制系统。
背景技术
晶圆曝光过程是利用光照将掩模版上的图形经过光学系统后投影到晶圆上,实现图形转移,是集成电路制造中光刻工艺的重要工序之一,在晶圆曝光之前需要对待曝光晶圆进行扫描,目前,扫描的模式为各个子系统顺序执行扫描过程,这种模式会导致曝光的时间为所有子系统执行时间的总和,所以导致曝光效率低下;因此,如何在保障曝光图像的质量的同时提高曝光效率,成为了亟待解决的问题。
发明内容
有鉴于此,本申请的目的在于提供一种执行器同步扫描的控制方法、上位机以及控制系统,能够通过获取扫描时间区间与准备时间区间,确定出扫描时间值,以及准备时间值,并通过扫描时间值时间与准备时间值控制多个子系统执行器对待曝光晶圆进行同步扫描,从而在保障曝光图像质量的同时提高晶圆曝光的工作效率。
本申请主要包括以下几个方面:
第一方面,本申请实施例提供了一种执行器同步扫描的控制方法,应用于上位机,所述控制方法包括:
获取参与扫描的各个子系统执行器的扫描时间区间;其中,扫描时间区间是根据上位机发送的动作数据确定的,所述动作数据包括子系统执行器扫描的起始位置和终止位置;
根据获取到的多个扫描时间区间之间的时间交叉关系,确定扫描时间值,并根据扫描时间值,确定出准备时间值;
根据所述扫描时间值以及所述准备时间值,同时向各个子系统执行器下发扫描控制指令,控制多个子系统执行器对待曝光晶圆进行同步扫描。
进一步的,通过以下步骤确定扫描时间值:
根据获取到的多个扫描时间区间,确定多个扫描时间区间之间是否存在交集;
若存在交集,将交集区间的下限时间值或者交集时间值确定为扫描时间值;
若不存在交集,则生成无法执行的显示信息。
进一步的,通过以下步骤确定准备时间值:
根据所述扫描时间值,获取多个子系统执行器的准备时间区间;其中,所述准备时间区间是所述子系统执行器根据扫描时间值重新规划运动路径后所确定的;
根据获取的多个准备时间区间,确定多个准备时间区间之间是否存在交集;
若存在交集,将交集区间的下限时间值或者交集时间值确定为准备时间值;
若不存在交集,则生成无法执行的显示信息。
进一步的,所述控制方法还包括:
接收同步扫描完成信号,从各个子系统执行器中获取对应的扫描结果,并更新各个子系统执行器的可用状态;
根据所述扫描结果进行数据分析,对所述子系统执行器进行优化,并根据子系统执行器的状态进行下一次同步扫描过程。
第二方面,本申请实施例还提供了一种上位机,所述上位机包括:
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