[发明专利]一种不含卤素残留的石墨散热膜的制备方法

权利要求书

1.一种不含卤素残留的石墨散热膜的制备方式，其特征在于，

石墨散热膜包括位于上下面的柔性石墨膜和位于中部的聚酰亚胺支架，所述的聚酰亚胺支架呈波浪状，聚酰亚胺支架的上下凸起面均通过热接的方式与柔性石墨膜相连，聚酰亚胺支架的总高度为石墨散热膜总高的60％-80％；

制备过程包括以下步骤：

S1、制备聚酰亚胺薄膜，并在聚酰亚胺薄膜上旋涂光刻胶；

S2、采用掩膜版对聚酰亚胺薄膜进行一二次曝光，其中曝光部分为正胶区域，未曝光区域为负胶区域；

S3、进行热烘，并使聚酰亚胺薄膜呈现波浪状变形；

S4、制备柔性石墨膜，并在柔性石墨膜的下表面涂覆粉末状的PEEK材料；

S5、通过热烘的方式，使得PEEK粉末熔融，并将其贴附在聚酰亚胺支架的表面；

S6、制备出符合要求的石墨散热膜，并对柔性石墨膜的外表面进行清洗与砂磨。

2.根据权利要求1所述的一种不含卤素残留的石墨散热膜的制备方式，其特征在于，步骤S5之后，对初步粘合的石墨散热膜进行弯折实验，要求弯折角度大于35-45度，且弯折后柔性石墨膜与聚酰亚胺支架之间不产生断裂。

3.根据权利要求1所述的一种不含卤素残留的石墨散热膜的制备方式，其特征在于，S6之后，采用聚四氟乙烯薄膜对石墨散热膜的两侧面进行封装，封装时，在石墨散热膜的内部空腔内充入呈负压状态的惰性气体。

4.根据权利要求3所述的一种不含卤素残留的石墨散热膜的制备方式，其特征在于，所述的惰性气体为氩气、氮气或是氦气。