[发明专利]多模态光学成像系统在审

专利信息
申请号: 202210320704.1 申请日: 2022-03-29
公开(公告)号: CN114711712A 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 冯丽爽;王聪昊 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: A61B3/10 分类号: A61B3/10;A61B3/14;A61B3/00
代理公司: 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 代理人: 孟潭;秦卫中
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 多模态 光学 成像 系统
【说明书】:

本申请公开了一种多模态光学成像系统。该系统包括:光源器件、第一分光器件、第一分束器件、第一合束器件、光学检测模块、光路干涉器件、干涉信号接收器件、第一合束器件、光学检测模块、波长选择器件、高分辨荧光信号接收器件和共聚焦信号接收器件;通过对于三种不同光学成像系统的器件的复用和整合,使得同时利用不同光学成像技术(光学相干断层扫描成像、激光扫描共聚焦显微成像和受激发射损耗显微成像)对探测样本进行探测得到图像,如此设置,可以同时得到三种具有各自成像优势的探测图像,避免了通过三套不同的设备分别进行检测带来的繁琐的步骤,还可以同时利用三种不同的技术进行检测,减少了检测时间,使得检测变的更加的简单。

技术领域

本申请涉及光学成像技术领域,具体涉及一种多模态光学成像系统。

背景技术

随着科学技术的进步,在光学成像领域,出现了多种成像技术。例如:基于低相干光干涉测量原理的光学相干断层扫描成像技术(optical coherence tomography,OCT),主体核心为迈克尔逊干涉仪,通过探测携带样本结构信息的背向散射干涉光进行二维和三维成像;基于共聚焦原理的激光扫描共聚焦显微成像技术(laser scanningophthalmoscopy,SLO),位于探测器前的焦平面共轭面处放置针孔,用于滤除离焦的非共聚焦信号,进而提高系统的轴向分辨率;基于受激发射替代自发辐射效应原理的受激发射损耗显微成像技术(stimulated emission depletion microscopy,STED)。常规的受激发射损耗显微成像系统需要两束照明光,分别为激发光路和损耗光路。通过损耗光路光斑的相位调制将激发光路光斑外围激发态猝灭回基态,实现减小激发光路光斑点扩散函数大小的作用,从而实现超光学衍射极限的分辨率成像。

以上三种光学成像技术,具有其各自的成像优势,在一些应用领域发挥着重要的作用。例如在眼科诊断如视网膜疾病诊断领域,以上三种光学成像技术均发挥着重要辅助诊断作用。

在实际应用中,基于三种不同的系统对于探测样本(例如视网膜)进行探测,得到三种具有各自的成像优势的探测图像,其具体操作十分不便。

发明内容

有鉴于此,本申请的实施例致力于提供一种多模态光学成像系统,能够解决基于三种不同的系统对于探测样本(例如视网膜)进行探测时,其具体操作十分不便的问题。

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