[发明专利]用于支持磁共振设备的匀场的设备和方法在审
申请号: | 202210318176.6 | 申请日: | 2022-03-29 |
公开(公告)号: | CN115137343A | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 斯特凡·比贝尔 | 申请(专利权)人: | 西门子医疗有限公司 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055;G01R33/385;G01R33/3875 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 支娜;蒋静静 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 支持 磁共振 设备 方法 | ||
本发明涉及一种磁共振设备,所述磁共振设备包括至少一个传感器,其中磁共振设备可以在检查室中定位,并且其中至少一个传感器构成用于求取磁共振设备在检查室中的空间位置。本发明还涉及一种用于支持磁共振设备的匀场参数的调整的方法,所述方法具有如下步骤:借助于至少一个传感器来求取磁共振设备在检查室中的当前空间位置;以及根据磁共振设备在检查室中的当前空间位置和磁场数据库的信息来调整磁共振设备的至少一个匀场元件的匀场参数,其中磁场数据库包括关于磁共振设备的空间位置的信息和与空间位置相关联的磁场数据。
技术领域
本发明涉及一种磁共振设备,所述磁共振设备包括至少一个传感器,其中磁共振设备可以在检查室中定位,并且其中至少一个传感器构成用于求取磁共振设备在检查室中的空间位置。本发明还涉及一种用于支持磁共振设备的匀场参数的调整的方法。
背景技术
存在尽可能均匀的磁场对于多个磁共振设备是基本前提。磁场的不均匀性在此可能起因于磁共振设备的磁体,但是也可能由外部影响、例如(电)磁场和/或环境中的电磁散布引起。其中安置有磁共振设备的建筑物的结构材料也可能是对磁共振设备的磁场的均匀性产生负面影响的外部影响。为了确保高质量的成像,在磁共振设备中通常需要调整磁场。在此使用不同的、也称为“匀场”的方法。在这种方法中使用匀场元件、例如铁薄片和/或电子匀场线圈,以便获得尽可能均匀的主磁场。
例如,借助于调整通过磁共振设备的梯度线圈的电流,可以在三个空间方向上对磁共振设备的主磁场进行线性补偿。然而,同样可行的是,使用单独的匀场线圈,以便补偿更高阶的不均匀性。相反,铁薄片通常安装在磁共振设备处的预先确定的位置上。原则上,通过选择铁薄片的数量、铁薄片的位置和/或铁薄片的取向,可以非常精确地设定磁场。借助于安装铁薄片来设定磁场是通常在首次安装磁共振系统时执行的已知的服务方法。
已知的匀场方法基于:磁共振设备的磁体处于检查室中的固定的点处。即使在例如可以借助于天花板悬挂装置移动的位置可变的磁共振设备的情况下,也仅在其中执行匀场方法的位置中得出均匀的磁场。这对于其中可以根据患者的身体区域和/或待在检查室中执行的成像检查来设定磁体的位置的磁共振设备是明显的缺点。
发明内容
因此,本发明的目的是,支持位置可变的磁共振设备的匀场元件的匀场参数的调整。
根据本发明,所述目的通过本发明的实施例的主题来实现。有利的实施方式和符合目的的改进方案是下面描述的主题。
根据本发明的磁共振设备包括至少一个传感器。
磁共振设备的磁场在此尤其可以为磁共振设备的静态主磁场(B0磁场),所述静态主磁场由磁共振设备的主磁体提供。
磁共振设备可以在检查室中定位。定位磁共振设备尤其可以包括改变磁共振设备相对于检查室的空间位置。磁共振设备的空间位置优选地通过磁共振设备在检查室中的位置、例如由检查室形成的坐标系中的多个坐标和/或取向来表征。还可设想,磁共振设备的位置通过磁共振设备或磁共振设备的磁体的重心的位置来确定。此外,所述位置也可以通过磁共振设备的外型廓、患者容纳区域和/或等中心来确定。此外,空间位置优选地包括关于磁共振设备和/或磁共振设备的磁体的取向的信息。磁共振设备和/或磁体的取向例如可以通过磁场的磁场方向和/或通过患者容纳区域相对于检查室的平坦的参考面的定向来表征。检查室可以是其中设立有磁共振设备和/或其中可以借助于磁共振设备对患者进行成像检查的任意空间。
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