[发明专利]一种纳米级氧化锆粉体制备工艺

权利要求书

1.一种纳米级氧化锆粉体制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

配制沉淀剂溶液、锆盐溶液、母液；

对母液进行加热，母液加热至第一温度；

将所述沉淀剂溶液、锆盐溶液同时加入母液中，加入过程中进行搅拌，过程中所述锆盐溶液流速为v1m³/h，所述沉淀剂溶液流速为v2m³/h；

加入完毕后继续恒温搅拌；

然后进行过滤、洗涤、干燥；

干燥后进行煅烧，即得；

所述锆盐溶液中锆离子浓度为a mol/L，所述a为0.5—2.5；

所述母液中包括铵离子和/或氨水，所述母液中铵离子和氨水浓度和为b mol/L，所述b为0.2—2。

2.根据权利要求1所述的一种纳米级氧化锆粉体制备工艺，其特征在于，所述沉淀剂溶液包括氨水、尿素其中的一种或者多种，所述沉淀剂溶液中溶质的浓度为c mol/L，所述c为0.3—1.5。

3.根据权利要求1所述的一种纳米级氧化锆粉体制备工艺，其特征在于，所述v1m³/h；为0.5—2

和/或

所述v2m³/h；为0.1—1.2。

4.根据权利要求1所述的一种纳米级氧化锆粉体制备工艺，其特征在于，所述第一温度为60-80℃。

5.根据权利要求1所述的一种纳米级氧化锆粉体制备工艺，其特征在于，所述煅烧温度为450-540℃，煅烧时间为3-5h。

6.根据权利要求1所述的一种纳米级氧化锆粉体制备工艺，其特征在于，包括控制工艺参数x，所述x＝a﹒v1/b。

7.根据权利要求6所述的一种纳米级氧化锆粉体制备工艺，其特征在于，所述工艺参数x为0.25-0.35。

8.根据权利要求1所述的一种纳米级氧化锆粉体制备工艺，其特征在于，包括控制工艺参数y，所述y＝a/c。

9.根据权利要求8所述的一种纳米级氧化锆粉体制备工艺，其特征在于，所述工艺参数y为1-1.5。

10.根据权利要求9所述的一种纳米级氧化锆粉体制备工艺，其特征在于，所述沉淀剂溶液、锆盐溶液同时加入母液中，所述沉淀剂溶液添加设备出液口延长线到所述母液液面交点为e点，所述锆盐溶液添加设备出液口延长线到所述母液液面交点为f点；

所述e点到f点之间的水平距离为L，所述L为0-1.5m。