[发明专利]一种潜望式摄像模组外壳的制造工艺

说明书

本发明属于摄像模组技术领域，尤其涉及一种潜望式摄像模组外壳的制造工艺，至少包括如下步骤：蚀刻，将经过涂膜、曝光、显影处理的基材置于蚀刻液中进行蚀刻处理，得到具有通光孔的基板，且通光孔的内侧边缘形成有倒角结构；镀膜，在基板上采用等离子溅射镀膜工艺镀吸收膜层，镀膜过程中，使用治具遮蔽不镀膜区域，使得镀膜区域和倒角结构上均附着有吸收膜层；折弯，对镀膜后的基板进行冲压折弯操作，得到外壳框架；对第三步得到的外壳框架进行激光焊接，得到所需外壳。相对于现有技术，本发明可以在减少反射面积和降低反射率的双重作用下，使通光孔最大程度减少反光，从而抑制杂光的产生，而且膜层厚度小且可控，从而提高摄像头的画质和清晰度。

技术领域

本发明属于摄像模组技术领域，尤其涉及一种潜望式摄像模组外壳的制造工艺。

背景技术

目前，带有摄像功能的终端设备已经成为人们工作和生活中不可或缺的电子产品，如智能手机、平板电脑等。智能手机、平板电脑等对摄像头越来越高的需求使得摄像头成为智能手机、平板电脑重要的核心部件之一。

潜望式摄像头是一种用于拍摄远距离物体而设计的特殊结构的摄像头，其主要特性是焦距长、视角小，对于远距离的目标可实现清楚的拍摄，其通常包括摄像组件和反射镜，外界自然光经过反射镜反射后在摄像组件上成像。其中的摄像组件中需要用到外壳组件，其包含一个大的通光孔。为了减少通光孔及内部黑化反射率，现有技术一般通过丝印工艺印黑，但是现有技术中的外壳在400-800nm光波段的反射率较高，一般只能达到小于或等于2％，而且会有较多的杂光，从而使得摄像头的画质、清晰度无法满足人们越来越高的要求，影响用户体验。

有鉴于此，本发明旨在提供一种潜望式摄像模组外壳的制造工艺，其先通过在通光孔的边缘蚀刻出倒角，同时采用镀膜工艺进行镀膜，再经过冲压弯折、焊接，得到潜望式摄像模组外壳，其在减少反射面积和降低反射率的双重作用下，使通光孔最大程度减少反光，从而抑制杂光的产生，而且膜层厚度小且可控，从而提高摄像头的画质和清晰度。

发明内容

本发明的目的在于：针对现有技术的不足，而提供一种潜望式摄像模组外壳的制造工艺，其先通过在通光孔的边缘蚀刻出倒角，同时采用镀膜工艺进行镀膜，再经过冲压弯折、焊接，得到潜望式摄像模组外壳，其在减少反射面积和降低反射率的双重作用下，使通光孔最大程度减少反光，从而抑制杂光的产生，而且膜层厚度小且可控，从而提高摄像头的画质和清晰度。

为了达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种潜望式摄像模组外壳的制造工艺，至少包括如下步骤：

第一步，蚀刻，将经过涂膜、曝光、显影处理的基材置于蚀刻液中进行蚀刻处理，得到具有通光孔的基板，且所述通光孔的内侧边缘形成有倒角结构；

第二步，镀膜，在第一步得到的基板上采用等离子溅射镀膜工艺镀吸收膜层，镀膜过程中，使用治具遮蔽不镀膜区域，使得镀膜区域和倒角结构上均附着有吸收膜层；

第三步，折弯，对镀膜后的基板进行冲压折弯操作，得到外壳框架；

第四步，对第三步得到的外壳框架进行激光焊接，得到所需外壳。

作为本发明潜望式摄像模组外壳的制造工艺的一种改进，第一步所述蚀刻液为三氯化铁和盐酸的混合溶液，其中，三氯化铁的浓度为40％-60％；盐酸的浓度10％-20％。

作为本发明潜望式摄像模组外壳的制造工艺的一种改进，第一步中蚀刻处理的温度为40℃-50℃，所述蚀刻液的波美度为40-42，基材的运动速度为1.5米/分钟-2米/分钟。

作为本发明潜望式摄像模组外壳的制造工艺的一种改进，所述基材的材质为不锈钢或铜合金，且所述基材的厚度为0.02-0.3mm。

作为本发明潜望式摄像模组外壳的制造工艺的一种改进，所述倒角结构呈弧形倾斜状，且所述倒角结构的内侧边缘呈尖角形。