[发明专利]一种潜望式摄像模组外壳的制造工艺

权利要求书

1.一种潜望式摄像模组外壳的制造工艺，其特征在于，至少包括如下步骤：

第一步，蚀刻，将经过涂膜、曝光、显影处理的基材置于蚀刻液中进行蚀刻处理，得到具有通光孔的基板，且所述通光孔的内侧边缘形成有倒角结构；

第二步，镀膜，在第一步得到的基板上采用等离子溅射镀膜工艺镀吸收膜层，镀膜过程中，使用治具遮蔽不镀膜区域，使得镀膜区域和倒角结构上均附着有吸收膜层；

第三步，折弯，对镀膜后的基板进行冲压折弯操作，得到外壳框架；

第四步，对第三步得到的外壳框架进行激光焊接，得到所需外壳；

所述倒角结构呈弧形倾斜状，且所述倒角结构的内侧边缘呈尖角形；

尖角形的角度小于30°。

2.根据权利要求1所述的潜望式摄像模组外壳的制造工艺，其特征在于：第一步所述蚀刻液为三氯化铁和盐酸的混合溶液，其中，三氯化铁的浓度为40％-60％；盐酸的浓度10％-20％。

3.根据权利要求2所述的潜望式摄像模组外壳的制造工艺，其特征在于：第一步中蚀刻处理的温度为40℃-50℃，所述蚀刻液的波美度为40-42，基材的运动速度为1.5米/分钟-2米/分钟。

4.根据权利要求1所述的潜望式摄像模组外壳的制造工艺，其特征在于：所述基材的材质为不锈钢或铜合金，且所述基材的厚度为0.02-0.3mm。

5.根据权利要求1所述的潜望式摄像模组外壳的制造工艺，其特征在于：所述通光孔的内侧表面呈锯齿形。

6.根据权利要求1所述的潜望式摄像模组外壳的制造工艺，其特征在于：从内向外，所述吸收膜层为交替设置的Ti层和二氧化硅层。

7.根据权利要求6所述的潜望式摄像模组外壳的制造工艺，其特征在于：所述等离子溅射镀膜工艺的具体条件为：温度为70℃-80℃，真空度为2.0e-3torr至3.0e-3torr，Ti的溅射速率为0.1nm/s-0.2nm/s，二氧化硅的溅射速率为0.3nm/s-0.7nm/s。

8.根据权利要求6所述的潜望式摄像模组外壳的制造工艺，其特征在于：所述吸收膜层的总厚度小于500nm；在400-800nm波长范围内，反射率小于或等于0.3％；Ti层和二氧化硅层的厚度比为(0.5-5)：1。