[发明专利]一种基于表面预处理的量子点图案制备方法

权利要求书

1.一种基于表面预处理的量子点图案制备方法，其特征在于：对基板表面进行预处理，于预处理后的基板表面形成由亲水性物质组成的第一图案和由疏水性物质组成的第二图案，第二图案设于第一图案外围并与第一图案的边缘相配合，量子点溶液沉积于第一图案上；其中第一图案、第二图案中的至少之一采用以下工艺制得：

提供一模板，模板表面具有凹凸构造，其中凸出部分形成图案表面；于所述图案表面涂覆亲水性物质或疏水性物质，采用压印工艺于基板上形成与图案表面相应的由亲水性物质或疏水性物质构成的图案。

2.根据权利要求1所述的基于表面预处理的量子点图案制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)对基板表面进行预处理；

2)提供一第一模板，所述第一模板表面具有若干分立柱状结构，所述若干分立柱状结构的表面形成第一图案表面，于第一图案表面涂覆亲水性物质，采用压印工艺于基板上形成第一图案；

3)提供一第二模板，所述第二模板表面具有若干分立凹坑，凹坑与所述柱状结构位置一一相对且尺寸相当，所述若干分立凹坑之外的表面形成第二图案表面，于第二图案表面涂覆疏水性物质，采用压印工艺于基板上形成第二图案；

4)于第一图案表面沉积量子点溶液；

其中步骤2)和步骤3)不分先后。

3.根据权利要求1所述的基于表面预处理的量子点图案制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)对基板表面进行预处理；

2)于基板表面涂覆一层疏水性物质；

3)提供一第一模板，所述第一模板表面具有若干分立柱状结构，所述若干分立柱状结构的表面形成第一图案表面，于第一图案表面涂覆亲水性物质，采用压印工艺于基板上形成第一图案，第一图案之外的疏水性物质形成第二图案；

4)于第一图案表面沉积量子点溶液。

4.根据权利要求1所述的基于表面预处理的量子点图案制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

1)对基板表面进行预处理；

2)于基板表面涂覆一层亲水性物质；

3)提供一第二模板，所述第二模板表面具有若干分立凹坑，所述若干分立凹坑之外的表面形成第二图案表面，于第二图案表面涂覆疏水性物质，采用压印工艺于基板上形成第二图案，第二图案之外的亲水性物质形成第一图案；

4)于第一图案表面沉积量子点溶液。

5.根据权利要求1所述的基于表面预处理的量子点图案制备方法，其特征在于：所述对基板表面进行预处理，是将基板依次放入丙酮、酒精溶液中，分别超声清洗5-10分钟后，去离子水冲洗5-10分钟，氮气吹干；将干燥的基板放入等离子体清洗机的腔体中，功率50～300W，时间3-5分钟。

6.根据权利要求1所述的基于表面预处理的量子点图案制备方法，其特征在于：所述量子点溶液中的量子点表面具有亲水性基团。

7.根据权利要求1所述的基于表面预处理的量子点图案制备方法，其特征在于：所述量子点溶液中的量子点为红色量子点或绿色量子点。

8.根据权利要求1所述的基于表面预处理的量子点图案制备方法，其特征在于：所述量子点溶液通过喷墨打印工艺沉积于第一图案上。

9.根据权利要求1所述的基于表面预处理的量子点图案制备方法，其特征在于：所述亲水性物质包括聚乙烯醇、聚醚多元醇、聚丙烯酸中的一种。

10.根据权利要求1所述的基于表面预处理的量子点图案制备方法，其特征在于：所述疏水性物质包括聚碳酸脂、聚烯烃、聚丙烯腈、聚酯、氟化氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰胺中的至少一种。