[发明专利]一种含缺陷偶极子的柔性铁电薄膜及制作方法

权利要求书

1.一种含缺陷偶极子的柔性铁电薄膜，其特征在于，包括：云母衬底，以及在所述云母衬底上依次生长的缓冲层、底电极层和铁电功能层。

2.根据权利要求1所述的一种含缺陷偶极子的柔性铁电薄膜，其特征在于，所述缓冲层的材料为CoFe₂O₄薄膜，厚度为8-15nm。

3.根据权利要求1所述的一种含缺陷偶极子的柔性铁电薄膜，其特征在于，所述底电极层的材料为SrRuO₃薄膜，厚度为25-50nm。

4.根据权利要求1所述的一种含缺陷偶极子的柔性铁电薄膜，其特征在于，所述铁电功能层的材料为Pb(Zr_0.2Ti_0.8)O₃薄膜，厚度为240-320nm。

5.根据权利要求1-4任一所述的一种含缺陷偶极子的柔性铁电薄膜的制作方法，其特征在于，具体包括：

1)通过脉冲激光沉积工艺，在云母衬底上生长缓冲层；

其中，选择光滑平整的所述云母衬底；

2)通过脉冲激光沉积工艺，在所述缓冲层上生长底电极层；

3)通过脉冲激光沉积工艺，在所述底电极层上生长铁电功能层。

6.根据权利要求5所述的一种含缺陷偶极子的柔性铁电薄膜的制作方法，其特征在于，

步骤1)所述在云母衬底上生长缓冲层所采用的脉冲激光沉积工艺中的激光器为波长248nm的KrF准分子激光器，激光能量为300mj；其具体参数为靶基距为70mm，沉积气氛为40±10mTorr氧气，衬底温度为600±30℃，沉积时间为3min-5min。

7.根据权利要求5所述的一种含缺陷偶极子的柔性铁电薄膜的制作方法，其特征在于，

步骤2)所述在缓冲层上生长底电极层所采用的脉冲激光沉积工艺中的激光器为波长248nm的KrF准分子激光器，激光能量为300mj；其具体参数为靶基距为70mm，沉积气氛为70±20mTorr氧气，衬底温度为600±30℃，沉积时间为4min-8min。

8.根据权利要求5所述的一种含缺陷偶极子的柔性铁电薄膜的制作方法，其特征在于，

步骤3)所述在底电极层上生长铁电功能层所采用的脉冲激光沉积工艺中的激光器为波长248nm的KrF准分子激光器，激光能量为400±30mj，详细参数为靶基距为70mm，沉积气氛为100±50mTorr氧气，衬底温度为600±30℃，沉积时间为30min-40min。