[发明专利]一种像素化钙钛矿纳米晶闪烁转换屏、制备方法及应用在审

专利信息
申请号: 202210289832.4 申请日: 2022-03-23
公开(公告)号: CN114778579A 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 张志军;陈轶阳 申请(专利权)人: 杭州钛光科技有限公司
主分类号: G01N23/22 分类号: G01N23/22;G01T1/202
代理公司: 重庆市信立达专利代理事务所(普通合伙) 50230 代理人: 任苇
地址: 310015 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 像素 化钙钛矿 纳米 闪烁 转换 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种像素化钙钛矿纳米晶闪烁转换屏的制备方法,其特征在于,所述像素化钙钛矿纳米晶闪烁转换屏的制备方法包括:首先利用基于异丙醇IPA法的室温合成方法、或者基于甲苯TOL的室温合成方法、或者热注射法HI制备钙钛矿溶液,合成尺寸小、粒径均匀的钙钛矿纳米晶;然后采用多孔模板辅助和超声喷涂或负压填充法可控制备出像素化钙钛矿纳米晶X射线闪烁转换屏。

2.如权利要求1所述像素化钙钛矿纳米晶闪烁转换屏的制备方法,其特征在于,所述像素化钙钛矿纳米晶闪烁转换屏的制备方法包括以下步骤:

步骤一,利用基于异丙醇IPA法的室温合成方法、或者基于甲苯TOL法的室温合成方法、或者热注射法HI制备钙钛矿溶液;

步骤二,将钙钛矿溶液进行提纯处理,得到钙钛矿纳米晶;

步骤三,将多孔模板进行清洗预处理;

步骤四,对多孔模板进行超声喷涂或负压填充,在多孔模板中形成较为致密的钙钛矿纳米晶阵列。

3.如权利要求2所述像素化钙钛矿纳米晶闪烁转换屏的制备方法,其特征在于,步骤三中,所述将多孔模板进行清洗预处理包括:将多孔模板在酒精、或三氯乙烯、或二氯甲烷、或四氯乙烯、或丙酮、或异丙醇、溶液中浸泡1~12h,超声处理15~200min后,将清洗后的多孔模板烘干备用。

4.如权利要求2所述像素化钙钛矿纳米晶闪烁转换屏的制备方法,其特征在于,步骤三中,所述多孔模板为多孔硅模板、多孔阳极氧化铝模板、多孔MCM模板、多孔SBA模板、多孔HMM模板、多孔TUD模板、多孔FSM模板、介孔二氧化硅模板、多孔CMK模板和多孔酚醛树脂模板、多孔光纤面板(FOP)中的任意一种。

5.如权利要求2所述像素化钙钛矿纳米晶闪烁转换屏的制备方法,其特征在于,步骤四中,所述像素化钙钛矿纳米晶阵列的制备包括:在超声喷涂中,将烘干后的多孔模板置大尺寸平板上,使带有模板的一面朝上,利用超声喷涂设备将钙钛矿纳米晶溶液超声雾化,得到亚微米或者纳米级的细小喷雾,直接在多孔模板上进行孔洞填充,得到像素化钙钛矿纳米晶阵列。

6.如权利要求2所述像素化钙钛矿纳米晶闪烁转换屏的制备方法,其特征在于,步骤四中,所述像素化钙钛矿纳米晶阵列的制备包括:在负压填充中,将烘干后的多孔模板置于玻璃瓶中,使带有模板的一面朝上,并加入已制备的钙钛矿纳米晶溶液,放入真空干燥箱、或干燥器、或真空罩进行负压填充,真空度0.1MPa,反应1~60h后取出模板,得到像素化钙钛矿纳米晶阵列;

步骤四中,所述钙钛矿纳米晶阵列闪烁转换屏的尺寸均匀、排列致密,直径为200nm~10μm。

7.如权利要求1所述像素化钙钛矿纳米晶闪烁转换屏的制备方法,其特征在于,所述采用IPA室温法制备钙钛矿纳米晶包括:

(1)Cs、Pb前驱体制备:在玻璃样品瓶中加入1:1的乙酸铯CsAc和乙酸铅三水合物Pb(Ac)2-3H2O,加入一定量的辛酸C8COOH,将混合物置于真空环境下充分除去水汽,再加入异丙醇IPA和正己烷HEX,盖上玻璃瓶盖,放在加热台上加热搅拌至完全溶解,加热区间为50~100℃,然后静置至完全回到室温;

(2)OCTMBr前驱体制备:在IPA溶剂中入一定量的辛胺C8NH2和氢溴酸HBr,搅拌至反应完全,静置等待溶液完全回到室温;

(3)在室温下,快速搅拌Cs、Pb前驱体,转速区间为100~10000rpm,迅速加入一定量的OCTMBr前驱体溶液,得到黄绿色的CsPbBr3溶液;

(4)将上述CsPbBr3溶液置入离心管进行离心,离心时间大于3分钟,弃置上层清液,将沉淀分散在与粗溶液同样体积的正己烷中,再次离心,离心时间大于3分钟,得到CsPbBr3分散液。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州钛光科技有限公司,未经杭州钛光科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210289832.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top