[发明专利]小尺寸基片涂胶盘及小尺寸基片涂胶装置有效
申请号: | 202210278532.6 | 申请日: | 2022-03-21 |
公开(公告)号: | CN114904730B | 公开(公告)日: | 2023-03-03 |
发明(设计)人: | 刘佳星;巩爽;王少刚;张轶;亢喆 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | B05C11/08 | 分类号: | B05C11/08;B05C13/02;G03F7/16 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 于金平 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 尺寸 涂胶 装置 | ||
本发明公开了一种小尺寸基片涂胶盘及小尺寸基片涂胶装置。小尺寸基片涂胶盘包括:本体部,本体部的上表面设有多个筋条,多个筋条沿本体部中心的周向方向间隔排布,相邻两个筋条构造形成一个沟槽,沟槽的一端朝向本体部的中心,沟槽的另一端朝向本体部的边缘,在本体部中心至边缘的方向上,沟槽的宽度逐渐减小;每个沟槽对应一个基片,基片适于止抵在沟槽靠近本体部中心的一端。本发明的小尺寸基片涂胶盘结构简单且无须真空吸附,因此可以单层或多层布置,单个小尺寸基片涂胶盘可同时实现多基片同时涂胶,大大提交了涂胶效率,并且光刻胶均匀性满足需求。
技术领域
本发明涉及基片光刻技术领域,尤其涉及一种小尺寸基片涂胶盘及小尺寸基片涂胶装置。
背景技术
红外焦平面探测技术具有光谱响应波段宽、可获得更多地面目标信息、能昼夜工作等显著优点,广泛应用于农牧业、森林资源的调查、开发和管理、气象预报、地热分布、地震、火山活动,太空天文探测等领域。红外探测器是红外探测制备过程中需要进行大量的小尺寸基片光刻胶涂覆曝光工作的。
涂胶盘是红外探测器光刻工艺使用的重要工装,在光刻涂胶工艺中用于将基片固定在涂胶机主轴上,通过高速旋转产生的离心作用将光刻胶均匀的涂覆在基片表面。
通常的涂胶盘有标准2英寸、3英寸、4英寸、6英寸和8英寸,分别用于同一尺寸的圆片或方片的涂胶,合适的涂胶盘和涂胶工艺可以使涂胶均匀性达到5%以内。但是在红外探测器制备过程中除了上述常规晶片,还需要对大量的小尺寸基片进行光刻胶涂覆及曝光显影工作。例如直径仅为4.2mm厚度为 0.16mm的蓝宝石片和石英片,每天的加工数量可达上万片。
常规涂胶盘通过真空吸盘吸住基片,小尺寸基片只能通过真空孔进行吸附,但常规涂胶盘布置过多真空孔会影响气密性,降低真空吸附力,影响工艺稳定性。因此使用常规涂胶盘效率低,无法满足需求。
发明内容
本发明实施例提供一种小尺寸基片涂胶盘及小尺寸基片涂胶装置,用以解决现有技术中小尺寸基片涂胶效果差、效率低的问题。
根据本发明实施例的小尺寸基片涂胶盘,包括:本体部,所述本体部的上表面设有多个筋条,多个所述筋条沿所述本体部中心的周向方向间隔排布,相邻两个所述筋条构造形成一个沟槽,所述沟槽的一端朝向所述本体部的中心,所述沟槽的另一端朝向所述本体部的边缘,在所述本体部中心至边缘的方向上,所述沟槽的宽度逐渐减小;
每个所述沟槽对应一个基片,所述基片适于止抵在所述沟槽靠近所述本体部中心的一端。
根据本发明的一些实施例,在所述本体部中心至边缘的方向上,所述筋条的高度逐渐减小。
根据本发明的一些实施例,所述沟槽的底壁设有抬高垫,在所述本体部中心至边缘的方向上,所述抬高垫的厚度逐渐增大。
根据本发明的一些实施例,所述沟槽的底壁设有抬高垫,在所述本体部中心至边缘的方向上,所述抬高垫的厚度逐渐减小。
根据本发明的一些实施例,位于不同所述沟槽的、相邻两个所述筋条靠近所述本体部中心的一端连接。
根据本发明的一些实施例,所述本体部呈圆盘状。
根据本发明的一些实施例,所述沟槽的深度小于所述基片的厚度。
根据本发明的一些实施例,所述本体部的上表面为粗糙面。
根据本发明的一些实施例,所述本体部设有镂空结构。
根据本发明实施例的小尺寸基片涂胶装置,包括:
如上所述的小尺寸基片涂胶盘。
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