[发明专利]一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉及其制备方法

说明书

本申请涉及抛光粉的技术领域，具体公开了一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉及其制备方法，由包括如下重量份数的原料制成：稀土氧化物80‑100份、氟化剂5‑10份、分散剂10‑15份；其中，所述稀土氧化物包括氯化铈30‑35份、沉淀剂35‑45份、PH调节剂15‑20份。氟化剂增加了稀土抛光粉的硬度并且细化了晶粒，降低玻璃抛光后的玻璃的面粗糙度；沉淀剂能提高稀土抛光粉中的稀土离子的含量；通过PH调节剂调节稀土抛光粉的PH，使稀土抛光粉的颗粒均匀细小，提高了稀土抛光粉的抛光精度；分散剂可保证稀土抛光粉的均匀性，减少稀土抛光粉产生颗粒团聚现象，进一步提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果。

技术领域

本申请涉及抛光粉的技术领域，更具体地说，它涉及一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉及其制备方法。

背景技术

稀土抛光粉是指一种以氧化铈为主体成分用于提高制品或零件表面光洁度的混合轻稀土氧化物的粉末。通常以氟碳铈精矿为原料，经化学法处理、灼烧、粉碎、筛分等过程制成。一般玻璃抛光使用的是微米级抛光粉，粒度在1-10μm之间，综合抛光速率和抛光效果，4-6μm抛光效果最佳；粒度大于10u m的抛光粉常用于玻璃粗磨阶段，小于1μm的亚微米抛光粉，在精密光学镜头和电子器件抛光等领域得到越来越广泛的应用。

相关技术中，稀土抛光粉的制备是将氧化稀土与氟化稀土混合，经研磨、干燥、焙烧、分级制备抛光粉。

由于相关技术中的稀土抛光粉部分颗粒经过烧结产生异常的生长，形成局部的粗大颗粒，从而在光学玻璃抛光过程中造成损伤，影响了稀土抛光粉的抛光效果。

发明内容

为了提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果，本申请提供一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉及其制备方法。

第一方面，本申请提供一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，采用如下的技术方案：

一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，由包括如下重量份数的原料制成：

稀土氧化物80-100份、氟化剂5-10份、分散剂10-15份；

其中，所述稀土氧化物包括氯化铈30-35份、沉淀剂35-45份、PH调节剂15-20份；

所述稀土氧化物的制备方法如下：

S11、将氯化铈与去离子水混合均匀，得到第一浆料；

S12、向所述第一浆料中加入沉淀剂以及PH调节剂，混合均匀，得到第二浆料；

S13、将第二浆料进行搅拌陈化，过滤并用去离子水充分洗涤得到沉淀物；

S14、将沉淀物进行焙烧，得到稀土氧化物。

我国生产的稀土抛光粉主要是以低稀土大颗粒的氧化物为主，导致稀土抛光粉的抛光精度较差，本申请的稀土氧化物粒度分布均匀，提高了稀土抛光粉的抛光精度与抛光效率。

具体的，氟化剂增加了稀土抛光粉的硬度并且细化了晶粒，有助于稀土抛光粉抛光，降低玻璃抛光后的玻璃的面粗糙度；沉淀剂能提高稀土抛光粉中的稀土离子的含量；通过PH调节剂调节稀土抛光粉的PH，对稀土抛光粉的力度大小和分布有着很大的影响，使稀土抛光粉的颗粒均匀细小，提高了稀土抛光粉的抛光精度；分散剂可保证稀土抛光粉的均匀性，减少稀土抛光粉产生颗粒团聚现象，进一步提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果。

使用氯化铈制备稀土氧化物，氯化铈溶于去离子水后，加入沉淀剂使体系中的铈离子沉淀，同时加入PH调节剂调节沉淀物的粒度分布，提高稀土抛光分的抛光精度，然后再将第二浆料进行陈化，使铈离子充分沉淀，过滤并充分洗涤，去除杂质得到沉淀物，然后对沉淀物进行焙烧，得到稀土氧化物(氧化铈)，通过此方法制备的稀土氧化物的粒度分布均匀，铈元素含量高，提高了稀土抛光粉的抛光效果。

优选的，所述第二浆料的陈化温度为15-50℃；所述第二浆料的陈化时间为1-8h。