[发明专利]一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉及其制备方法

权利要求书

1.一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，由包括如下重量份数的原料制成：

稀土氧化物80-100份、氟化剂5-10份、分散剂10-15份；

其中，所述稀土氧化物包括氯化铈30-35份、沉淀剂35-45份、PH调节剂15-20份；

所述稀土氧化物的制备方法如下：

S11、将氯化铈与去离子水混合均匀，得到第一浆料；

S12、向所述第一浆料中加入沉淀剂以及PH调节剂，混合均匀，得到第二浆料；

S13、将第二浆料进行搅拌陈化，过滤并用去离子水充分洗涤得到沉淀物；

S14、将沉淀物进行焙烧，得到稀土氧化物。

2.根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述第二浆料的陈化温度为15-50℃；所述第二浆料的陈化时间为1-8h。

3.根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述沉淀物的焙烧温度为300-1000℃，所述沉淀物的焙烧时间为1-8h。

4.根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述沉淀剂为碳酸氢铵或草酸铵中的一种。

5.根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述PH调节剂为氨水或磷酸二氢钠中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述氟化剂选用氟化钾或氢氟酸中的一种；所述氟化剂的添加量为3%-10%

根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述分散剂为聚丙烯酸钠或聚乙二醇中的一种。

7.一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉的制备方法，用于制备权利要求1-7任一项稀土抛光粉，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将稀土氧化物进行研磨，得到粉状物料；

S2、将所述粉状物料与去离子水混合均匀，得到第一混合物；

S3、依次向所述第一混合物中加入氟化剂以及分散剂，混合均匀，得到第二混合物；

S4、将所述第二混合物进行干燥处理，得到第一干燥物；

S5、将所述第一干燥物进行粉碎处理后在200-1000℃下干燥1-8h，得到第二干燥物；

S6、将所述第二干燥物放入球磨机中球磨1-6h，得到稀土抛光粉。

8.根据权利要求8所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉的制备方法，其特征在于，所述第一干燥物的焙烧温度为500-800℃，所述第二干燥物的焙烧时间为2-6h。

9.根据权利要求8所述的用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉的制备方法，其特征在于，所述第二干燥物的球磨时间为2-5h。