[发明专利]一种具有整平能力的电化学抛光方法

权利要求书

1.一种具有整平能力的电化学抛光方法，其特征在于：包括以下步骤：

A、制备超光滑超平整的固体电解质抛光垫

固体电解质抛光垫采用固体电解质制备，具体步骤如下：

A1、在烧杯中配制固体电解质溶液；

A2、将配制好的预制溶液迅速倒入模具中，溶液过量，使之上表面成拱形，迅速且小心地将洁净的具有超光滑超平整表面的物体盖压在模具上避免产生气泡；

A3、待电解质溶液完全固化后将固体电解质从模具中取出，得到超光滑超平整的固体电解质抛光垫；

B、将固体电解质抛光垫放置于电解池中

将固体电解质抛光垫的超平整表面朝上置于盛有抛光电解液的电解池中，使固体电解质抛光垫的超平整表面保持水平且电解液液面在固体电解质抛光垫的超平整表面之下；

C、放置金属工件

将前处理后的金属工件的待抛光面朝下置于固体电解质抛光垫的超平整表面上，金属工件连接导线作为工作电极；

D、进行电化学抛光加工

在金属工件和固体电解质抛光垫具有相对运动的状态下，对金属工件进行电化学抛光加工；

E、取下金属工件

将金属工件从固体电解质抛光垫上取下，加工完毕。

2.根据权利要求1所述一种具有整平能力的电化学抛光方法，其特征在于：步骤A所述固体电解质包括聚丙烯酰胺凝胶、聚乙烯醇凝胶或琼脂糖凝胶。

3.根据权利要求1所述一种具有整平能力的电化学抛光方法，其特征在于：步骤A所述超光滑为表面粗糙度小于100nm，超平整为面形精度峰谷值小于5μm。

4.根据权利要求1所述一种具有整平能力的电化学抛光方法，其特征在于：步骤B所述抛光电解液按照待加工工件的材料进行选择且为钝化型电解液，用所述抛光电解液测定的极化曲线具有钝化区。

5.根据权利要求1所述一种具有整平能力的电化学抛光方法，其特征在于：步骤C所述前处理为对金属工件进行表面清洁，表面清洁方法为超声清洗和稀酸去除氧化层。

6.根据权利要求1所述一种具有整平能力的电化学抛光方法，其特征在于：步骤D所述相对运动的驱动力的作用方向在水平面内，金属工件依靠自身重力与固体电解质抛光垫的超平整表面贴合。

7.根据权利要求1所述一种具有整平能力的电化学抛光方法，其特征在于：步骤D所述电化学抛光加工所用的电位为钝化电位。