[发明专利]一种用于碳离子束测量的多层法拉第筒测量系统及方法在审

专利信息
申请号: 202210240100.6 申请日: 2022-03-10
公开(公告)号: CN114660652A 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 唐凯;赵祖龙;丁家坚;陈玉聪;胡正国;毛瑞士;徐治国;康新才;杨永良;李娟;刘通;冯永春 申请(专利权)人: 中国科学院近代物理研究所
主分类号: G01T1/29 分类号: G01T1/29
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵悦
地址: 730013 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 离子束 测量 多层 法拉第 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于碳离子束测量的多层法拉第筒测量系统,其特征在于,包括:外壳、若干个测量层、插槽和多路电流计;

所述测量层设置在所述外壳中,其包括金属层和绝缘层,所述金属层设置在所述绝缘层上,所述金属层的测量平面与所述碳离子束的入射方向垂直;

所述插槽设置在所述外壳上,其与各组测量层中的所述金属层连接,用于将所述金属层获得的电荷信号传输至所述多路电流计;

所述多路电流计用于对所述金属层获得的电荷信号进行分析,获得电荷量曲线的峰值位置,所述峰值位置为所述碳离子束的射程,根据所述射程计算所述碳离子束的能量。

2.如权利要求1所述的多层法拉第筒测量系统,其特征在于,所述测量层为覆铜板,所述覆铜板的铜箔作为金属层,所述覆铜板的基板作为绝缘层,所述基板为PCB板。

3.如权利要求2所述的多层法拉第筒测量系统,其特征在于,所述基板的面积大于所述铜箔的面积。

4.如权利要求2所述的多层法拉第筒测量系统,其特征在于,所述基板等效为铜箔的等效厚度为:

其中,d1为基板等效为铜箔之后的等效厚度,d2为基板的实际厚度,R1为预设能量的碳离子束在铜箔中的射程,R2为预设能量的碳离子束在基板中的射程。

5.如权利要求2所述的多层法拉第筒测量系统,其特征在于,所述测量系统还包括降能片,入射的所述碳离子束通过降能片后,照射在所述测量层上。

6.如权利要求5所述的多层法拉第筒测量系统,其特征在于,所述降能片包括若干厚度不同的PMMA板,所述PMMA板的厚度由入射的所述碳离子束的能量确定,确定方法为根据待测碳离子束能量在铜箔中的射程,减去覆铜板的总的等效厚度,得到需要设置的等效厚度,将其转换为降能片的实际厚度。

7.如权利要求1-6任一项所述的多层法拉第筒测量系统,其特征在于,将若干个所述测量层分为若干组,每组中测量层数量相同,在所述测量层的金属层设置信号引出端子,每一层的信号引出端子数等于所述测试层在该组中的位置序号。

8.一种用于碳离子束测量的多层法拉第筒测量方法,其特征在于,包括:

确定降能片的厚度,并设置对应厚度的降能片;

碳离子束通过所述降能片照射在所述如权利要求1-6任一项所述的多层法拉第筒测量系统的测量层上,所述测量层将检测到的电信号传输至插槽,并通过所述插槽将电信号传输至多路电流计;

所述多路电流计测量碳离子束在不同测量层上的电荷分布,得到所述碳离子束的电荷分布曲线;

获得所述电荷分布曲线上的测量峰位置和信号值,并确定所述测量峰对应的测量层;

根据各个测量层的所述信号值,计算碳离子束的射程,并根据碳离子束的射程获得所述碳离子束的能量。

9.如权利要求8所述的多层法拉第筒测量方法,其特征在于,所述确定降能片的厚度的方法为:

当碳离子束的能量处于80~286.715MeV/u区间时,不使用降能片,直接对碳离子束进行检测;

当碳离子束的能量处于286.715~349.525MeV/u区间时,使用第一厚度的降能片,然后对碳离子束进行检测;

当碳离子束的能量处于349.525~430MeV/u区间时,使用第二厚度的降能片,然后对碳离子束进行检测;

所述第一厚度小于第二厚度。

10.如权利要求8所述的多层法拉第筒测量方法,其特征在于,所述射程的计算公式为:

R=R1+R2+z

其中,R1为降能片的等效厚度,R2为n2层之前所有测量层的等效厚度,I1、I2和I3分别为第n1层、第n2层和第n3层的信号值,电荷分布曲线峰值所在的测量层为n2层、n2层的前一测量层为n1层,n2层的后一测量层为n3层。

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