[发明专利]一种清洗液循环流动的晶圆槽式清洗机

说明书

本发明适用于晶圆生产设备技术领域，提供了一种清洗液循环流动的晶圆槽式清洗机；包括：清洗槽；设置于清洗槽内部的环形隔板，环形隔板外侧与清洗槽内侧围合而成循环槽；转动设置于环形隔板内部的转动盘；设置在转动盘上往复滑动的多个用于承载超声换能器的安装滑板；设置在环形隔板内部的花篮固定架，花篮固定架用于对花篮进行固定；用于驱动花篮固定架和超声换能器往复滑动的驱动机构，驱动机构设置在清洗槽上；及，用于驱动清洗槽内部清洗液通过循环槽循环流动的连通管道，连通管道设置在清洗槽底部；连通管道内部转动设置有用于驱动清洗液流动的螺旋器。本发明提高了清洗效率，同时使得晶圆清洗更加完整。

技术领域

本发明涉及晶圆生产设备技术领域，具体是一种清洗液循环流动的晶圆槽式清洗机。

背景技术

在半导体制造中清洗工艺是使用最频繁、重复次数最多的一个工艺过程。其中，湿法化学清洗技术在半导体制造中得到广泛应用，其工作原理是使用各种化学药液与半导体器件表面的各种杂质、粒子发生化学反应生成溶于水的物质，再用高纯水冲洗，依次除去半导体器件表面的污染物。

现有技术在通常采用超声清洗，在超声清洗过程中由于晶圆和超声发生装置之间位置相对固定，导致存在清洗不够彻底的现象，为了解决该技术问题现提出一种清洗液循环流动的晶圆槽式清洗机。

发明内容

本发明的目的在于提供一种清洗液循环流动的晶圆槽式清洗机，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种清洗液循环流动的晶圆槽式清洗机，所述清洗液循环流动的晶圆槽式清洗机，包括：清洗槽；

设置于所述清洗槽内部的环形隔板，所述环形隔板外侧与清洗槽内侧围合而成循环槽；

转动设置于环形隔板内部的转动盘，所述转动盘上设有用于清洗液上下流动的通孔结构；

设置在转动盘上往复滑动的多个用于承载超声换能器的安装滑板；

设置在环形隔板内部的花篮固定架，所述花篮固定架用于对花篮进行固定，所述花篮固定架设置在转动盘上方；

用于驱动花篮固定架和超声换能器往复滑动的驱动机构，所述驱动机构设置在清洗槽上；

及，用于驱动所述清洗槽内部清洗液通过循环槽循环流动的连通管道，所述连通管道设置在清洗槽底部，且设置在转动盘下方；所述连通管道内部转动设置有用于驱动清洗液流动的螺旋器。

作为本发明进一步的方案：所述驱动机构包括驱动凸起和转动设置在清洗槽上的驱动轴，所述转动盘固定安装在驱动轴上，所述安装滑板弹性滑动安装在转动盘上，所述安装滑板一端设置有抵触杆，所述抵触杆抵触在清洗槽内壁上，所述驱动凸起为多个，且多个所述驱动凸起阵列设置在抵触杆的移动轨迹上。

作为本发明再进一步的方案：所述安装滑板滑动设置在转动盘上的滑槽中，且安装滑板通过弹性件弹性设置在转动盘上。

作为本发明再进一步的方案：所述驱动机构还包括驱动盘，所述驱动盘连接在驱动轴上，所述驱动盘与花篮固定架之间传动连接，所述花篮固定架滑动设置在清洗槽内部。

作为本发明再进一步的方案：所述花篮固定架连接在滑杆上，所述滑杆滑动设置在清洗槽内部，所述滑杆端部设置有连杆，所述连杆远离滑杆一端滑动设置在驱动盘表面的驱动槽中，所述驱动槽为环形波浪结构。

作为本发明再进一步的方案：所述螺旋器外侧设置有第二齿环，所述第二齿环与第一齿环啮合，所述第一齿环设置在转动盘的底部。

作为本发明再进一步的方案：所述连通管道端部设置有过滤网，所述过滤网用于对杂质进行过滤。

作为本发明再进一步的方案：所述循环槽底部还设置有排污槽，所述排污槽上设置有开关阀。