[发明专利]一种中、低光泽的陶瓷砖制备工艺及陶瓷砖

说明书

本发明涉及陶瓷砖技术领域，尤其涉及一种中、低光泽的陶瓷砖制备工艺及陶瓷砖，包括如下步骤：S1.将有机溶剂、硅酸四乙酯、甲基三乙氧基硅烷、表面活性剂、水和酸催化剂按比例混合，于15‑60℃条件下搅拌反应6‑12小时，得到镀膜溶胶；S2.在高光泽陶瓷砖的保护釉层上涂覆所述镀膜溶胶，升温至透明保护釉层的玻璃化转变温度进行退火定型，得到中、低光泽的陶瓷砖。通过在陶瓷砖的保护釉层表面增设了增透膜层，使透明保护釉层反射光减小、透光率增大，在降低透明保护釉层反射眩光的同时，增加其透明度，提升陶瓷砖的图案、纹理清晰度和质感，同时不影响瓷砖表面的光滑质感和表面粗糙度，满足更高的装饰需求。

技术领域

本发明涉及陶瓷砖技术领域，尤其涉及一种中、低光泽的陶瓷砖制备工艺及陶瓷砖。

背景技术

高光泽陶瓷砖如全抛釉砖因具有天然大理石的质感和自然纹理，受到消费者的喜爱。然而相比于天然大理石的自然光泽，高光泽陶瓷砖表面采用了透明的全保护釉层作为中间花色与图案的保护层，然而，由于透明保护釉层与空气折射率存在明显的失配，并且保护釉表面光滑平整，粗糙度较低，使得瓷砖表面呈现明显的镜面反射光，这种镜面反射光一定程度上减小了保护釉层的透光率，从而影响了保护釉下的图案和纹理的清晰度，由于镜面反射光为杂散光，容易造成光污染，从而干扰人眼对瓷砖产品图案和纹理的欣赏。

现有技术中通过增加保护釉层的粗糙度，使原本的镜面反射转化为漫反射，以降低瓷砖釉面的镜面抛光反射率。如专利号202011056439.8中在陶瓷砖釉料中加入砂岩干粒，从而增加表面釉层的粗糙度，实现漫反射，使光泽度在5度以内；或者专利号202011618990.7中，通过在表面釉层中加入低光泽防滑颗粒，使陶瓷砖保持低光泽度：2-5度。但上述方案通过增加粗糙度将镜面反射转变为漫反射的方式，虽然可以降低釉层表面光泽度，但没有减小釉层表面的总反射率，甚至可能使总反射率增加，使得保护釉层的透光率进一步降低，造成人眼对颜色釉层和图案层观察的清晰度进一步降低。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种中、低光泽陶瓷砖制备工艺及陶瓷砖，旨在降低现有的陶瓷砖中透明保护釉的镜面反射眩光，从而提升现有陶瓷砖中透明保护釉的透光率，以获得视觉更舒适、图案和纹理更清晰的陶瓷砖。

为实现上述目的，本发明提出一种中、低光泽的陶瓷砖制备工艺，包括如下步骤：S1.合成镀膜溶胶：将有机溶剂、硅酸四乙酯、甲基三乙氧基硅烷、表面活性剂、水和酸催化剂按(30-60)：1：(0.1-1)：(0.003-0.3)：(2-6)：(0.002-0.004)的摩尔比混合，于15-60℃加热条件下搅拌反应6-12小时，得到镀膜溶胶；

S2.在经清洗和干燥后的高光泽陶瓷砖的透明保护釉层上施加所述镀膜溶胶，升温至透明保护釉层处于玻璃化转变温度进行退火定型，得到中、低光泽的陶瓷砖。

一般采用清水对陶瓷砖的表面进行清洁并干燥后，再进行后续的涂覆作业，对于干净的陶瓷砖也可直接涂覆镀膜溶胶。陶瓷砖在未涂覆镀膜溶胶时，为高光泽陶瓷砖(如全抛釉砖)，具体为80°以上，在涂覆有镀膜溶胶并经退火定型后，陶瓷砖的光泽度会降低至10-70°，定义10-40°为低光泽，40-70°为中光泽，即由高光泽陶瓷砖转变成中、低光泽的陶瓷砖。