[发明专利]一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备及镀膜方法

说明书

本发明公开了一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备，包括真空容器，真空容器内设有收放卷室和镀膜室，收放卷室设隔膜阀，收放卷室内各设放卷系统和收卷系统，放卷系统输出基材进入镀膜室中，基材镀膜后复卷至收卷系统上。一种镀膜方法，包括：放卷系统输出基材缠绕镀膜辊一、磁控靶一对镀膜辊一上的基材的第一面进行镀膜；基材通过走膜通道缠绕在镀膜辊二、磁控靶二对镀膜辊二上的基材的第二面进行镀膜，基材镀膜后收卷在收卷系统上；在放卷和收卷更换卷材时，隔膜阀一和隔膜阀二关闭，保持镀膜室一和镀膜室二的真空度。本发明在收放卷材时，关闭隔膜阀，保持镀膜室的真空度不变，镀膜室和收放卷室相互独立，加快抽真空时间，提高生产效率。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备及镀膜方法。

背景技术

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。真空镀膜需对真空容器进行抽真空，将容器内抽气形成真空环境。目前进行连续双面镀膜的磁控溅射镀膜设备常采用一个真空容器内包含放卷室、镀膜室和收卷室，室内各部位真空度是相同的，称作单室结构真空容器。这种容器抽真空时间长，抽气机组配置大，成本较高。

发明内容

本发明的目的旨在提供一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备及镀膜方法，在镀膜室和收放卷室之间安装隔膜阀，在收放卷时，关闭隔膜阀，保持镀膜室内的真空度不变，将镀膜室和收放卷室相互独立，可加快抽真空容器的抽真空时间，有效提高生产效率。

为解决上述技术问题，本发明提供的技术方案是：一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备，包括真空容器，真空容器内设有收放卷室和镀膜室，收放卷室设有隔膜阀，收放卷室内设置放卷系统和收卷系统，放卷系统输出基材通过隔膜阀进入镀膜室中镀膜，基材镀膜后复卷至收卷系统上。

本发明采用上述技术方案，将收放卷室与镀膜室相互独立，减少镀膜室的空间，可加快对真空容器的抽真空时间；通过隔膜阀，在输送基材时，关闭隔膜阀，可保持镀膜室内的真空度，更换卷膜后再进行生产时，则只需对收放卷室抽真空即可，有效提升生产效率。

进一步地，镀膜室中设有镀膜辊和磁控靶，磁控靶环绕镀膜辊设置。磁控靶环绕镀膜辊设置，可增加对基材的镀膜面积，提升镀膜效果和速率。

进一步地，收放卷室分为收卷室和放卷室，收卷室和放卷室将镀膜室分隔成镀膜室一和镀膜室二、收卷室和放卷室之间形成有走膜通道。基材在镀膜室一镀膜后，经过走膜通道进入镀膜室二进行第二面镀膜，以完成基材的双面镀膜。

进一步地，镀膜室一中设有镀膜辊一和磁控靶一，镀膜室二中设有镀膜辊二和磁控靶二。在镀膜室一中通过磁控靶一对基材的第一面镀膜，在镀膜室二中通过磁控靶二对基材的第二面镀膜，实现基材的双面同时镀膜，提升生产效率。

进一步地，放卷室与镀膜室一之间设有隔膜阀一，收卷室与镀膜室二之间设有隔膜阀二。通过隔膜阀一将放卷室与镀膜室一分离，在放卷输送基材时，关闭隔膜阀一，放卷室与镀膜室一不干涉，保持镀膜室一的真空度不变；在收卷基材时，关闭隔膜阀二，收卷室与镀膜室二不干涉，保持镀膜室二的真空度不变；在镀膜过程中，通过隔膜阀的设置，实现保持镀膜室的真空度，且在更换卷膜再生产时，只需对收放卷室抽真空即可，提高生产效率，降低生产成本。

进一步地，基材的输送行程中设有若干导辊。导辊可用于扶正和拉紧基材，利于基材的均匀、稳定输送。

本发明提供的另一技术方案是：一种镀膜方法，包括如下步骤：

放卷系统输出基材缠绕镀膜辊一、磁控靶一对镀膜辊一上的基材的第一面进行镀膜；