[发明专利]一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备及镀膜方法在审
| 申请号： | 202210185652.1 | 申请日： | 2022-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN114525491A | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 朱刚毅;朱刚劲 | 申请（专利权）人： | 广东腾胜科技创新有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 东莞高瑞专利代理事务所(普通合伙) 44444 | 代理人： | 杨英华 |
| 地址： | 526000 广东省肇庆市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 真空 容器 结构 真空镀膜 设备 镀膜 方法 | ||
1.一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备，包括真空容器(1)，其特征在于：所述真空容器(1)内设有收放卷室(2)和镀膜室(3)，所述收放卷室(2)设有隔膜阀(4)、放卷系统(5)和收卷系统(6)，放卷系统(5)输出基材(7)通过隔膜阀(4)进入镀膜室(3)中镀膜，基材(7)镀膜后复卷至收卷系统(6)上。
2.根据权利要求1所述的新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：所述镀膜室(3)中设有镀膜辊(8)和磁控靶(9)，所述磁控靶(9)环绕镀膜辊(8)设置。
3.根据权利要求1所述的新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：所述收放卷室(2)分为收卷室(22)和放卷室(21)，收卷室(22)和放卷室(21)将镀膜室(3)分隔成镀膜室一(31)和镀膜室二(32)、收卷室(22)和放卷室(21)之间形成有走膜通道(23)。
4.根据权利要求3所述的新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：所述镀膜室一(31)中设有镀膜辊一(81)和磁控靶一(91)，所述镀膜室二(32)中设有镀膜辊二(82)和磁控靶二(92)。
5.根据权利要求3所述的新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：所述放卷室(21)与镀膜室一(31)之间设有隔膜阀一(41)，所述收卷室(22)与镀膜室二(32)之间设有隔膜阀二(42)。
6.根据权利要求3所述的新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：所述基材(7)的输送行程中设有若干导辊(10)。
7.一种镀膜方法，其特征在于，包括如下步骤：
放卷系统(5)输出基材(7)缠绕镀膜辊一(81)、磁控靶一(91)对镀膜辊一(81)上的基材(7)的第一面进行镀膜；
基材(7)通过走膜通道(23)缠绕在镀膜辊二(82)、磁控靶二(92)对镀膜辊二(82)上的基材(7)的第二面进行镀膜，基材(7)镀膜后收卷在收卷系统(6)上；
其中，在放卷室(21)上设有隔膜阀一(41)，收卷室(22)上设有隔膜阀二(42)，在放卷和收卷时，隔膜阀一(41)和隔膜阀二(42)关闭，保持镀膜室一(31)和镀膜室二(32)的真空度。
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