[发明专利]分子动力学模拟氧化铝薄膜空间结构特征的方法及系统有效

专利信息
申请号: 202210182371.0 申请日: 2022-02-25
公开(公告)号: CN114528713B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 单征;孙回回;韩传兵;邱俊玲;刘福东;王立新;王淑亚;王卫龙;侯一凡 申请(专利权)人: 中国人民解放军战略支援部队信息工程大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G16C10/00
代理公司: 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 代理人: 石丹丹
地址: 450000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 分子 动力学 模拟 氧化铝 薄膜 空间结构 特征 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种分子动力学模拟氧化铝薄膜空间结构特征的方法,其特征在于,包含以下步骤:

步骤1,基于分子动力学模拟软件建立Al和O2反应的初始模型,具体包括:

采用X、Y方向周期性边界条件和Z方向固定边界条件,建立Al模型;首先赋予Al原子质量和初始温度,采用ReaxFF势函数描述Al与Al之间的相互作用,设置Al模型处于目标反应温度,选择系综为NPT;然后在Al原子的上方创建空白区域,随机放置O2分子,使最下层O和最上层Al之间间距设置为

步骤2,对步骤1中所建立的模型进行初始化;

步骤3,对步骤2初始化后的模型进行动力学保温弛豫,得到Al和O2充分反应的氧化铝模型;

步骤4,对步骤3得到的氧化铝模型进行动力学降温,得到热噪声干扰最小的氧化铝模型所对应的dump文件;

步骤5,通过开源可视化软件对步骤4得到的dump文件数据进行读取,去除未成键的原子,获得新的dump文件;

步骤6,通过开源可视化软件中的分析模块,对步骤5新的dump文件中的数据进行Voronoi分析,导出不同工艺参数下的原子坐标、原子类型、原子Id、配位数、原子体积和Voronoi指数至文件;

步骤7,整理文件数据并绘制统计曲线,得到配位数、原子体积、Voronoi指数与氧化温度、O2密度、Al基底晶向变化之间的关系图,评价工艺参数对氧化铝薄膜空间结构特征的影响。

2.根据权利要求1所述的分子动力学模拟氧化铝薄膜空间结构特征的方法,其特征在于,所述分子动力学模拟软件采用LAMMPS软件。

3.根据权利要求1所述的分子动力学模拟氧化铝薄膜空间结构特征的方法,其特征在于,所述步骤2的初始化过程如下:

赋予O原子质量和初始温度,采用ReaxFF势函数描述Al与O、O与O之间的相互作用。

4.根据权利要求3所述的分子动力学模拟氧化铝薄膜空间结构特征的方法,其特征在于,所述步骤1和步骤2采用ReaxFF势函数描述Al与Al、Al与O、O与O之间的相互作用,具体表达式为:

Esystem=Ebond+Eover+Eunder+Elp+Eval+Etors+EvdWaals+ECoulomb

其中,Ebond,Eval,Etors是依赖于键级的价键相互作用,EvdWaals是分子间作用势,ECoulomb是静电相互作用,其余的为修正项。

5.根据权利要求1所述的分子动力学模拟氧化铝薄膜空间结构特征的方法,其特征在于,所述步骤3具体包括:

将Al基底底部的3层原子的自由度、速度和受力均设置为0,同时使Al和O2反应的整个系统保持在步骤1设置的目标反应温度;在保温状态下,每隔固定时间步设定一个状态点,利用in文件中的thermo命令实时输出每一个状态点下系统的温度、压强、体积、内能、动能、总能量和时间进度,信息自动记录在log文件;利用in文件中的dump命令,输出每一个状态点下系统中所有原子的坐标和速度,分别保存至dump文件中。

6.根据权利要求1所述的分子动力学模拟氧化铝薄膜空间结构特征的方法,其特征在于,所述步骤4具体包括:

设置降温初始温度为步骤1设置的目标反应温度,终止温度为小于等于298K,降温速率由降温过程总时间步决定;同时,每隔固定时间步设定一个状态点,利用in文件中的thermo命令实时输出每一个状态点下系统的温度、压强、体积、内能、动能、总能量和时间进度,信息自动记录在log文件;利用in文件中的dump命令,输出每一个状态点下系统中所有原子的坐标和速度,分别保存至dump文件中。

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