[发明专利]一种移液、微滴生成及封膜系统

权利要求书

1.一种移液、微滴生成及封膜系统，其特征是，包括主机壳、安装于所述主机壳中的移液机构、微滴制备机构和封膜机构，所述主机壳的内部设有支架结构，所述移液机构和所述微滴制备机构位于所述支架结构的上侧，所述封膜机构位于所述支架结构的下侧；

所述支架结构设置有试剂工位、样本工位和微滴制备工位，所述移液机构包括移液臂和第一驱动结构，所述第一驱动结构与所述移液臂传动连接，以带动所述移液臂移动至对应工位；

所述微滴制备机构包括下压块、气体加压结构和第二驱动结构，所述气体加压结构与所述下压块连通，所述第二驱动结构与所述下压块传动连接，以使所述下压块压紧于所述微滴制备工位上的芯片；

所述封膜机构包括孔板移动座、导膜结构、压膜结构和第三驱动结构，所述导膜结构设有供密封膜安装的容置间隙，所述第三驱动结构与所述孔板移动座传动连接，所述孔板移动座的运动路径与所述容置间隙的延伸方向交叉布置，所述压膜结构位于所述孔板移动座的上侧，以对孔板的表面覆膜压合密封；

所述支架结构为支板，所述支板上开设有容纳孔板的容纳孔位，所述容纳孔位与孔板间隙配合；

所述孔板移动座包括移动基座、升降支座和升降结构，所述升降支座设置于所述移动基座的上侧，所述升降结构连接于所述移动基座与所述升降支座之间，以带动孔板在所述容纳孔位与封膜高度之间升降运动；

所述封膜机构还包括定位结构，所述定位结构包括定位移动座和定位块，所述定位块设置于所述定位移动座上，所述定位块的一侧边缘设有定位部，所述定位部朝向所述升降支座布置，以在所述升降支座抵接于所述定位部时对密封膜形成压紧作用；

所述定位移动座移动安装于所述支板的下侧，且所述定位移动座的运动路径与所述孔板移动座的运动路径重合，所述定位移动座具有对应所述容置间隙的接膜状态、随所述孔板移动座运动的随动状态。

2.根据权利要求1所述的移液、微滴生成及封膜系统，其特征是，所述定位部设有第一磁性件，所述升降支座的对应侧设有第二磁性件，所述第一磁性件与所述第二磁性件磁吸配合。

3.根据权利要求1所述的移液、微滴生成及封膜系统，其特征是，所述主机壳的下部设有挡止座，所述定位移动座与所述挡止座挡止配合，且所述挡止座与所述孔板移动座的运动路径错开布置。

4.根据权利要求1所述的移液、微滴生成及封膜系统，其特征是，所述定位部设有水平凸出的凸起，所述凸起用于对上方的密封膜形成挡止配合，所述升降支座的对应侧设有凹槽，所述凸起与所述凹槽凹凸配合。

5.根据权利要求4所述的移液、微滴生成及封膜系统，其特征是，所述导膜结构固定安装于所述支板上，且所述容置间隙贯穿于所述支板呈竖向布置；所述定位移动座在接膜状态时，所述容置间隙与所述凸起上下对应布置。

6.根据权利要求4所述的移液、微滴生成及封膜系统，其特征是，所述导膜结构上还设有覆膜压辊，所述覆膜压辊位于背向所述凸起的一侧；

所述升降支座的一侧对应所述凸起设有折膜刀片，所述折膜刀片的上侧设有刃边，所述刃边间隔布置于所述覆膜压辊的下侧。

7.根据权利要求1所述的移液、微滴生成及封膜系统，其特征是，所述微滴制备工位设有六个，六个所述微滴制备工位均设有芯片固定座，每个所述芯片固定座上均安装有两个8孔芯片，所述8孔芯片的表面安装有硅胶垫。

8.根据权利要求1所述的移液、微滴生成及封膜系统，其特征是，所述微滴制备机构还包括温度检测模块，所述温度检测模块用于检测实时温度以修正微滴制备时间。