[发明专利]一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统在审
申请号: | 202210108565.6 | 申请日: | 2022-01-28 |
公开(公告)号: | CN114407214A | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 杨振忠;徐志群;孙彬;付明全;毕喜行;马伟萍 | 申请(专利权)人: | 广东高景太阳能科技有限公司 |
主分类号: | B28D5/04 | 分类号: | B28D5/04;B28D7/00 |
代理公司: | 东莞市卓易专利代理事务所(普通合伙) 44777 | 代理人: | 张静 |
地址: | 519000 广东省珠海市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 尺寸 硅片 切割 砂浆 浓度 自动 调节 系统 | ||
1.一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统,其特征在于:包括检测执行系统和控制系统,所述检测执行系统包括检测模块、浓度监测模块、排液模块和补液模块,所述控制系统包括显示器、参数设定模块、调控模块和搅拌模块;
所述检测模块用于检测砂浆液液位和硅棒切割深度数据;
所述浓度监测模块用于监测砂浆缸内部砂浆液的浓度变化;
所述排液模块用于当浓度监测模块监测到砂浆液浓度高于3%时将砂浆液抽出一部分;
所述补液模块用于根据排液模块排出的砂浆液的量添加相应比例的水和切割液进行稀释控制砂浆液浓度;
所述显示器用于显示检测模块和浓度监测模块获取的实时数据并实时更新;
所述参数设定模块用于设定排液模块触发的阈值数据及排液模块和补液模块的抽液量和补液量数据;
所述调控模块用于控制排液模块中电磁阀和抽水泵的启停及补液模块中电磁阀的开关;
所述搅拌模块用于砂浆缸内砂浆液的持续搅动。
2.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统,其特征在于:所述检测模块包含液位监测子模块和硅棒切割检测子模块,所述液位监测子模块设置于砂浆缸内部用于获取砂浆液液位实时变化数据并于显示器显示,所述硅棒切割检测子模块设置于切割室内用于获取硅棒切割深度的实时变化数据并于显示器显示。
3.根据权利要求2所述的一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统,其特征在于:所述液位监测子模块利用光电传感器实时监测砂浆液液位,所述硅棒切割检测子模块利用位移传感器检测切割线位移距离获取硅棒切割深度。
4.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统,其特征在于:所述浓度监测模块利用液体浓度传感器实时获取砂浆缸内砂浆液浓度变化数据并于显示器显示。
5.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统,其特征在于:所述排液模块包含抽水泵、流量计和电磁阀,所述排液模块的管路由电磁阀控制开通和关闭,由抽水泵将砂浆液抽出并由流量计检测抽出的砂浆液的量。
6.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统,其特征在于:所述补液模块包含加水子模块和加切割液子模块,所述加水子模块和加切割液子模块用于根据调控模块控制添加稀释水量和切割液的量,所述加水子模块和加切割液子模块均由电磁阀控制开通和关闭并由流量计检测添加的水量和切割液量。
7.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统,其特征在于:所述显示器包含基础参数设定子模块和检测监测数据显示子模块,所述基础参数设定子模块用于设置切割设备运行的基础参数,所述检测监测数据显示子模块用于实时显示检测模块和浓度监测模块获取的数据。
8.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统,其特征在于:所述参数设定模块中排液模块触发的阈值数据包含砂浆液液位阈值、硅棒切割深度阈值和砂浆液浓度阈值,所述参数设定模块中补液量数据包含加水量数据和添加的切割液量数据。
9.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统,其特征在于:所述调控模块包含计算子模块和控制子模块,所述计算子模块用于根据排液模块排出的砂浆液的量计算加水量和添加切割液的量,所述控制子模块用于控制排液模块和补液模块多组电磁阀的启停。
10.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅片切割砂浆液浓度自动调节系统,其特征在于:所述搅拌模块设置于砂浆缸内部利用搅拌驱动模块驱动搅拌杆对砂浆液持续搅拌。
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