[发明专利]一种GaN HEMT的ASM模型直流参数提取方法在审
申请号: | 202210104833.7 | 申请日: | 2022-01-28 |
公开(公告)号: | CN114462343A | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 雷玥;朱能勇;李翡 | 申请(专利权)人: | 北京华大九天科技股份有限公司 |
主分类号: | G06F30/367 | 分类号: | G06F30/367;G06F30/373;G06F115/06 |
代理公司: | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人: | 王金双 |
地址: | 100102 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 gan hemt asm 模型 直流 参数 提取 方法 | ||
一种GaN HEMT的ASM模型直流参数提取方法,其特征在于,包括以下步骤:1)给定器件的工艺参数;2)提取电容_电压关系曲线相关参数:通过逆导电容_漏电压曲线、输出电容_漏电压曲线、输入电容_漏电压曲线、栅极电容_栅电压曲线提取相关参数;3)提取电流_电压关系曲线相关参数:对关键部分漏极电流_漏电压曲线和漏极电流_栅电压曲线进行参数提取和用所有的漏极电流_漏电压曲线和漏极电流_栅电压曲线进行参数提取。本发明的GaN HEMT的ASM模型直流参数提取方法,能够降低参数提取次数,提高GaN HEMT的ASM模型直流参数提取效率和提取参数的准确性。
技术领域
本发明涉及集成电路自动化设计领域,特别涉及一种氮化镓高电子迁移率晶体管(GaN HEMT)的ASM模型直流参数提取方法。
背景技术
氮化镓高级SPICE模型(GaN ASM)被认为是功率GaN和射频GaN的工业紧凑标准模型,目前主要应用于工业界。GaN ASM模型除了讨论大信号建模外,对GaN HEMT的场板电容、陷阱效应、Kink效应以及噪声等特性均实现了精准建模。该模型通常使用的直流参数提取方法中,将漏极电流_漏电压(id_vd)曲线和漏极电流_栅电压(id_vg)曲线区分开进行参数提取,实际很多参数对漏极电流_漏电压(id_vd)曲线和漏极电流_栅电压(id_vg)曲线都有影响,有时会在调整漏极电流_漏电压(id_vd)曲线时将之前已经调整好的漏极电流_栅电压(id_vg)曲线打乱,从而只能重新对漏极电流_栅电压(id_vg)曲线进行调整,因此需要多次重复提取,增加了参数提取的复杂性,降低了参数提取效率。
另外,在使用优化器进行自动化参数提取过程中,大多数情况下都是通过计算均方根误差(RMS)误差率来判断参数改变趋势和区间,在将所有的漏极电流_漏电压(id_vd)测量曲线和漏极电流_栅电压(id_vg)测量曲线用来自动优化进行参数提取时,小电压下的小电流曲线对自动优化过程中的误差率计算影响较大,进而对参数变化趋势和区间选择会有影响,降低了直流参数提取的准确性。
发明内容
为了解决现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种GaN HEMT的ASM模型直流参数提取方法,提高GaN HEMT的ASM模型直流参数提取效率和提取参数的准确性。
为实现上述目的,本发明提供的GaN HEMT的ASM模型直流参数提取方法,包括以下步骤:
1)给定器件的工艺参数;
2)提取电容_电压关系曲线相关参数:通过逆导电容_漏电压曲线、输出电容_漏电压曲线、输入电容_漏电压(ciss_vd)曲线、栅极电容_栅电压曲线提取相关参数;
3)提取电流_电压关系曲线相关参数:对关键部分漏极电流_漏电压曲线和漏极电流_栅电压曲线进行参数提取和用所有的漏极电流_漏电压曲线和漏极电流_栅电压曲线进行参数提取。
进一步地,所述工艺参数,包括:器件长度、器件宽度、器件栅指数、器件栅源长度,以及器件漏源长度。
进一步地,所述步骤2),还包括,
由逆导电容_漏电压曲线提取漏源交叠电容参数,边缘电容参数,偏置电压参数,电容_电压模型中漏电饱和电压参数;
由输入电容_漏电压曲线提取漏源电容参数,漏极边缘电容参数,控制低漏源电压下与漏源电容无关值的参数,零漏源电压接入区域电容参数,高漏源电压下衰减参数,漏极内建电势参数;
由输入电容_漏电压曲线提取参数栅源交叠电容参数;
由栅极电容_栅电压曲线提取参数AlGaN层厚度参数,反转中的量子力学效应预因子兼开关参数,电荷质心参数_反转QME下电容电压曲线斜率参数,电荷质心参数_QME反演起点参数。
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