[发明专利]一种高饱和度非晶光子晶体结构色釉的制备方法

权利要求书

1.一种高饱和度非晶光子晶体结构色釉的制备方法，其特征在于，包括以下步骤；

步骤一：按质量比取10-85%高铁含量的黏土、2-20%的长石、8-20%的石英和5-50%的高岭土进行配料；

或者按质量比取5-50%的黑色尾矿或矿渣、5-20%的长石、5-15%的石英和40-60%的高岭土进行配料；

步骤二：混合上述配料作为坯料，坯料经行星式球磨机进行研磨，将得到的料浆进行干燥、研磨、造粒和陈腐，利用压片机将陈腐好的坯体粉料进行压制，取出后素烧，保温，得到黑色坯体；

步骤三：按质量比取57%的长石、16%的石英、12%的方解石、11%的滑石、4%的高岭土，并且加入上述物料的总质量的2%的磷酸三钙Ca₃(PO₄)₂和10%的硼熔块，以及0.8%的羧甲基纤维素钠和0.3%的多聚磷酸钠进行配料，得到混合釉料；

步骤四：将步骤三得到的混合釉料经行星式球磨机进行研磨，采用蘸釉法将得到的釉浆均匀地施敷在制备的坯体上，施釉厚度控制在5 mm，得到施釉坯；

步骤五：步骤四得到的施釉坯经干燥后放入电炉中氧化气氛下烧制，待样品冷却之后，即制备出高饱和度的非晶光子晶体结构色釉。

2.根据权利要求1所述的一种高饱和度非晶光子晶体结构色釉的制备方法，其特征在于，所述步骤二中球磨机转速为300 r/min，球磨时间为40 min，料:球:水之比为1:2:0.6。

3.根据权利要求1所述的一种高饱和度非晶光子晶体结构色釉的制备方法，其特征在于，所述步骤二中利用压片机将陈腐好的坯体粉料在25 MPa的压力进行压制，取出后素烧至900℃，保温120 min。

4.根据权利要求1所述的一种高饱和度非晶光子晶体结构色釉的制备方法，其特征在于，所述步骤四中球磨机转速为300 r/min，球磨时间为40 min，料:球:水之比为1:2:0.8。

5.根据权利要求1所述的一种高饱和度非晶光子晶体结构色釉的制备方法，其特征在于，所述步骤五烧制温度为1200-1350℃，并保温10-50 min。