[发明专利]镀膜设备和镀膜设备的控制方法

说明书

本说明书实施方式提供一种镀膜设备，镀膜设备具有负压腔，用于为所述负压腔提供负压的第一抽气设备，和质谱检测装置，所述第一抽气设备能为所述质谱检测装置提供负压。通过镀膜设备的负压腔和质谱检测装置共用第一抽气设备，达到了节约设备成本、减少操作步骤的效果，实现了对镀膜设备方便检测密封性的目的。

技术领域

本发明涉及分析仪器设备领域，具体涉及一种镀膜设备和镀膜设备的控制方法。

背景技术

镀膜设备主要指一类需要在较高负压度下，对基片进行镀膜的设备。工作时，需要将基片和靶材放置在负压腔中。由于镀膜设备需要较高的负压环境，因此对负压腔的密封性提出了较高的要求。

镀膜设备使用一段时间后，工作人员需要对镀膜设备的负压腔进行检漏，查看负压腔是否有缝隙。检漏时，将检漏仪的检漏口连接在镀膜设备的出气口，查看质谱检测装置的信号值是否有变化。现有技术成本大，步骤繁琐。

发明内容

有鉴于此，本说明书的目的在于提供一种方便检测的镀膜设备和镀膜设备的控制方法。

为了实现上述目的，本说明书提供了一种镀膜设备，所述镀膜设备有负压腔，所述镀膜设备包括用于为所述负压腔提供负压的第一抽气设备，所述镀膜设备还包括质谱检测装置，所述第一抽气设备能为所述质谱检测装置提供负压。

本说明书还提供了一种镀膜设备的控制方法，所述方法包括：启动第一抽气设备为所述镀膜设备的负压腔和质谱检测装置提供负压；在所述负压腔的压力达到第一阈值的情况下，启动第二抽气设备；其中，所述第二抽气设备的向所述质谱检测装置提供负压；所述第一抽气设备的功率小于所述第二抽气设备；在所述质谱检测装置的压力达到第二阈值的情况下，启动所述质谱检测装置。

通过镀膜设备的负压腔和质谱检测装置共用第一抽气设备，达到了节约设备成本、减少操作步骤的效果，实现了对镀膜设备方便检测密封性的目的。

附图说明

图1所示为利用本说明书一实施例提供的镀膜设备的示意图。

图2所示为利用本说明书一实施例提供的镀膜设备的示意图。

图3所示为利用本说明书一实施例提供的镀膜设备的示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1、图2和图3。本说明书的实施方式提供一种镀膜设备200，所述镀膜设备200具有负压腔204，所述镀膜设备200包括用于为所述负压腔204提供负压的第一抽气设备217；所述镀膜设备200还包括质谱检测装置220，所述第一抽气设备217能为所述质谱检测装置220提供负压。

所述负压腔204可以是所述镀膜设备200放置镀膜工件的负压工作空间。所述镀膜工件可以包括基片和靶材，所述基片可以是需要镀膜的工件，所述靶材可以是膜的材料。镀膜时，将基片和靶材都放置在负压腔204中，加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，原子团或离子可以沉积在基片表面。为了更好地给基片镀膜，需要气体稀薄的环境，因此对镀膜设备200的负压腔204的密封性提出了更高的要求。