[发明专利]清洗设备

权利要求书

1.一种清洗设备，用于对半导体设备中的待清洗件进行清洗，其特征在于，包括腔体、工艺槽和开闭装置，所述工艺槽设置于所述腔体内，用于盛放清洗液；所述开闭装置包括柔性膜、第一卷轴组件和第二卷轴组件；其中，

所述柔性膜覆盖于所述工艺槽的槽口上，并且具有与所述工艺槽的槽口相配合的开口部和遮挡部；

所述柔性膜的两端分别卷绕在所述第一卷轴组件和第二卷轴组件上，且所述第一卷轴组件和第二卷轴组件能够沿相同方向同步转动以带动所述柔性膜移动，以使所述开口部和所述遮挡部对所述工艺槽的槽口进行选择性地敞开或遮挡；

所述工艺槽的数量多个，多个所述工艺槽并列设置；在任意一个所述工艺槽在进行工艺时，所述柔性膜的所述开口部能够移动至相应的所述工艺槽的槽口处，以敞开所述工艺槽的槽口；多个所述工艺槽在非工艺时，所述遮挡部能够遮挡全部所述工艺槽的槽口；

所述清洗设备还包括机械手，所述机械手用于在所述工艺槽的槽口敞开后，将待清洗件置入所述工艺槽进行清洗；并用于在清洗完毕后，将所述待清洗件从所述工艺槽中取出。

2.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述第一卷轴组件和所述第二卷轴组件分别设置于最外侧的两个所述工艺槽的外侧。

3.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，所述工艺槽数量为两个，包括第一工艺槽和第二工艺槽；所述柔性膜具有第一工艺位置、第二工艺位置和第三工艺位置；

所述柔性膜位于所述第一工艺位置时，所述开口部与所述第一工艺槽相对，且所述遮挡部与所述第二工艺槽相对；

所述柔性膜位于所述第二工艺位置时，所述开口部与所述第二工艺槽相对，且所述遮挡部与所述第一工艺槽相对；

所述柔性膜位于所述第三工艺位置时，所述遮挡部与所述第一工艺槽和所述第二工艺槽相对。

4.根据权利要求3所述的清洗设备，其特征在于，所述柔性膜具有两个相邻的第一开口部和第二开口部，所述第一开口部和所述第二开口部能够同时与所述第一工艺槽和所述第二工艺槽相对；

所述遮挡部包括第一遮挡位、第二遮挡位和第三遮挡位；当所述柔性膜位于所述第一工艺位置时，所述第二开口部与所述第一工艺槽相对，所述第三遮挡位与所述第二工艺槽相对；

当所述柔性膜位于所述第二工艺位置时，所述第一开口部与所述第二工艺槽相对，所述第二遮挡位与所述第一工艺槽相对；

当所述柔性膜位于所述第三工艺位置时，所述第一遮挡位与所述第二工艺槽相对，所述第三遮挡位与所述第一工艺槽相对。

5.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，一个所述第一卷轴组件和一个所述第二卷轴组件为一组，每组设置于每个所述工艺槽相对的两侧。

6.根据权利要求3所述的清洗设备，其特征在于，还包括控制装置，所述控制装置用于同时向所述第一卷轴组件和所述第二卷轴组件发送控制信号，控制所述第一卷轴组件和所述第二卷轴组件沿相同方向同步转动，以使所述柔性膜能够移动至所述第一工艺位置、所述第二工艺位置和所述第三工艺位置。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的清洗设备，其特征在于，所述第一卷轴组件和所述第二卷轴组件的结构相同，均包括旋转轴、驱动电机和固定结构；其中，

所述旋转轴的两端通过所述固定结构固定于所述腔体中；所述旋转轴用于与所述柔性膜卷绕连接；所述驱动电机用于驱动所述旋转轴旋转。

8.根据权利要求7所述的清洗设备，其特征在于，所述第一卷轴组件和所述第二卷轴组件均包括第一轴承、第二轴承和联轴器；

所述旋转轴的第一端通过所述第一轴承与所述联轴器连接；所述联轴器的另一端与所述驱动电机连接；所述旋转轴的第二端与所述第二轴承滚动连接；

所述固定结构包括电机固定件和轴承固定件，所述驱动电机通过述所电机固定件设置于所述腔体上；所述轴承固定件用于支撑所述第一轴承和所述第二轴承，所述旋转轴的两端通过所述轴承固定件与所述腔体连接。