[发明专利]一种新型反光膜加工工艺

权利要求书

1.一种新型反光膜加工工艺，其特征在于：其流程包括：

1)基膜预处理：清洁并使基膜表面光滑，去静电；

2)涂覆胶层：将用于固定反光珠的胶层涂覆在基膜上；

3)粘附反光珠：使涂有胶层的基膜穿过粉末状的反光珠容器内；

4)涂覆装饰层：在反光珠的一侧设置涂覆颜料胶层，在100-120℃下干燥1-2min；

5)涂覆复合胶层：在颜料胶层上涂覆一层用于支撑的复合胶层，之后送入烘干箱内烘干，烘干箱内温度为140-150℃，烘干时间为4-8min。

6)自然冷却3-5分钟后采用风冷降至室温，总共10分钟之后即可收卷，使用时可连基膜一起裁切，制成产品后可撕掉用于保护的基膜。

2.根据权利要求1所述的一种新型反光膜加工工艺，其特征在于：所述步骤3中粘附反光珠设置1-2个刮板将多余的、未粘牢的反光珠刮下，刮板之后设置1-2个压合辊将反光珠压入胶层内。

3.根据权利要求2所述的一种新型反光膜加工工艺，其特征在于：所述刮板的间隙为0.1-2mm，所述压合辊的间隙为0.3-1mm。

4.根据权利要求1所述的一种新型反光膜加工工艺，其特征在于：所述步骤2的胶层为用于保护的透明胶层，所述胶层的厚度为0.1-0.5mm。

5.根据权利要求1所述的一种新型反光膜加工工艺，其特征在于：所述反光珠为预制反光珠，其直径为0.01-0.5mm，所述反光珠为树脂、玻璃、金属材质均可。

6.根据权利要求1所述的一种新型反光膜加工工艺，其特征在于：所述颜料胶层为预制涂层，其涂覆的厚度为0.1-0.2mm，其干燥后厚度为0.02-0.04mm。

7.根据权利要求1所述的一种新型反光膜加工工艺，其特征在于：所述步骤4的颜料层的干燥采用序批式的真空干燥结构，其干燥时间为2-3分钟，其干燥压力为0.1mPa。

8.根据权利要求7所述的一种新型反光膜加工工艺，其特征在于：所述真空干燥内部设置用于消泡的消泡压合辊。

9.根据权利要求1所述的一种新型反光膜加工工艺，其特征在于：所述步骤5中烘干箱内采用红外烘干的方式进行加热，并采用红外温度检测器监测烘干箱内部的反光膜的温度。