[发明专利]基于量子点荧光效应的光学元件亚表面缺陷三维重构方法

权利要求书

1.一种基于量子点荧光效应的光学元件亚表面缺陷三维重构方法，包括以下步骤：

步骤1）：选择适合标记光学元件的量子点;

步骤2）：选择好合适的量子点后，制备两组试件，一组在研磨过程中加入量子点，另一组不加入量子点；将未加入量子点的荧光图像中荧光强度的最高值设为阈值，在加入量子点的荧光图像中将低于该阈值的设为背景，使用激光共聚焦显微镜采集图像的加入量子点的荧光图像中荧光强度的最高值，判断量子点是否进入亚表面缺陷，确定亚表面缺陷的位置后，对亚表面缺陷处进行先Z轴再X轴的扫描路径，有利深度信息的采集，设置层析间隔为样本维度的2.3倍进行采样，避免因层析距离过大时，造成图像的分辨率降低，影响重构的精确度；

步骤3）：将获取到亚表面缺陷处荧光切片中的色值转换成亮度，参照YUV和RGB的对应关系，对图像进行灰度化处理；

步骤4）：对获取到的亚表面缺陷荧光切片图像进行双边自适应滤波，恢复原有图像中的灰度值；

步骤5）：使用最大类间方差法结合canny算子实现对缺陷边缘的提取，最后选择八邻域目标跟踪将缺陷进行连接；

步骤6）：对提取后的光学元件亚表面缺陷荧光切片图像，每两层进行读取，构成三维体数据场，根据阈值在三维数据场中提取等值面，将等值面进行连接，完成光学元件亚表面缺陷的三维重建。

2.如权利要求1所述的基于量子点荧光效应的光学元件亚表面缺陷三维重构方法，其特征在于：所述步骤2）中，对试件进行区域划分，分区进行。