[发明专利]含非pH敏感型单体的pH敏感聚合物的合成及应用在审

专利信息
申请号: 202210069223.8 申请日: 2022-01-20
公开(公告)号: CN115785346A 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 汪贻广;赵瑞阳;陈斌龙;付川询;王增辉;潘美洁;潘兴泉;秦蒙蒙;陈卫;张强 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: C08F283/06 分类号: C08F283/06;C08F220/34;C08F220/14;C08F220/20;C08F220/18;C08G65/334;A61K47/34;A61K9/107;A61K45/00;A61P35/00;A61P29/00;A61P37/02;A61P9/10;A61
代理公司: 北京恒都律师事务所 11395 代理人: 李向东
地址: 100091*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: ph 敏感 单体 聚合物 合成 应用
【权利要求书】:

1.pH敏感聚合物,包括亲水链段和疏水链段两个部分。

2.根据权利要求1所述的pH敏感聚合物,其中,亲水链段可以是聚乙二醇(PEG)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚甲基丙烯酸酰氧乙基磷脂酰胆碱(PMPC)、聚甲基丙烯酸寡聚乙二醇酯(POEG)、聚糖、聚甜菜碱甲基丙烯酸酯(PCB)中的一种或更多种。

3.根据权利要求1或2所述的pH敏感聚合物,其中,疏水链段具有下式1所示的结构:

其中,R’、R”、R”’、X1和X2分别选自-H、C1-C12烷基、C1-C12环烷基、C1-C12取代烷基、C1-C12取代环烷基,

R””是由聚合反应产生的端基,选自卤素或含硫基团;卤素例如为Br,含硫基团例如为硫醇或硫酯;

R1、R2二者可以相同也可以不同,分别取自C1-C16烷基、C1-C16环烷基、C1-C16芳香基、C1-C16杂芳香基以及取代的上述基团,或者,R1和R2也可以合在一起形成-(C1-C16)-烷基、-(C1-C16)-烷基氧基、-(C1-C16)-烷基氨基;

M1、M2分别选自-O-和-NH-中的一种,当M1、M2为-O-时,与其相连的聚合物支链与聚合物骨架以酯键相连;当M1、M2为-NH-时,与其相连的聚合物支链与聚合物骨架以酰胺键相连;

R3为非pH敏感基团,例如,选自以下基团中的一种或多种:C1-C16烷基、C1-C16环烷基、C1-C16芳香基以及含一个或多个羟基、巯基、胍基、卤素、醚键、酯键、酰胺键、芳基、烷基、氨基甲酸酯键中一种或多种结构取代的上述基团,或者C2-C16磺酸盐、C2-C16硫酸盐、糖基、磷脂酰胆碱、磷脂酰乙醇胺;

a、b分别为1-10的整数;

x、y分别为整数,x和y之和为10-200的整数;

z为1-50的整数,x、y、z三部分可以在聚合物疏水链段中按任意顺序排列;在一些实施例中,x、y、z三部分分别各自构成三个嵌段;在一些实施例中,x和z构成一个无规则排列的嵌段,y自身构成一个嵌段;在一些实施例中,x、y、z三部分构成一个无规则排列的嵌段;

L为连接臂;

F为标记分子,各个L各自独立,及各个F各自独立,可以各自不同。

4.根据权利要求3所述的pH敏感聚合物,其中,标记分子选自荧光分子、光敏剂、荧光淬灭分子、自发光分子、化疗药物、免疫治疗药物、金属螯合分子其中的一种或多种。在一些实施例中,标记分子为荧光分子,选自5(6)-羧基四甲基罗丹明(TMR)、Cyanine 3、Cyanine3.5、Cyanine 5、Cyanine 5.5、Cyanine 7.5、吲哚菁绿(ICG)、Bodipy FL、Bodipy 650、Pacific blue、香豆素及上述分子的结构衍生物中的一种或多种;在一些实施例中,标记分子为光敏剂,选自卟吩、卟啉、菌绿素、肽菁、阳离子型光敏剂、醌类光敏剂、姜黄素类光敏剂、Bodipy类光敏剂及上述分子的结构衍生物中的一种或多种;在一些实施例中,标记分子为荧光淬灭分子,选自DABCYL、DABSYL、QXL、QSY、BHQ、ATTO中的一种或多种;在一些实施例中,标记分子为自发光分子,自发光分子为鲁米诺(Luminol);在一些实施例中,标记分子为化疗药物,选自紫杉醇、多西他赛、喜树碱、羟基喜树碱、阿霉素、表阿霉素、柔红霉素、顺铂中的一种或多种;在一些实施例中,标记分子为免疫治疗药物,选自吲哚胺-(2,3)-双加氧酶抑制剂IDOi、Toll样受体激动剂中的一种或多种;在一些实施例中,标记分子为金属螯合基团,选自DOTA、NOTA、TETA、Diamsar、NETA、TACN-TM及上述结构的衍生物。

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