[发明专利]一种具有低湿度敏感性高饱和吸水量的材料及其制备方法

权利要求书

1.一种具有低湿度敏感性高饱和吸水量的材料，其特征在于，该材料由羟基硅氧烷和含硼化合物反应所得；其中，所述羟基硅氧烷与所述含硼化合物的质量比为2~60：98~40；

其中，所述羟基硅氧烷为羟基封端聚二甲基硅氧烷、对1,4-双（羟基二甲基硅基）苯、羟基封端MQ树脂、羟丙基封端聚二甲基硅氧烷中的任意一种或几种；

所述含硼化合物为三氧化二硼、硼酸三甲酯、硼酸、硼酸三乙酯中的任意一种或几种。

2.根据权利要求1所述的一种具有低湿度敏感性高饱和吸水量的材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1 制备所述羟基硅氧烷，并将制得的羟基硅氧烷溶解于溶剂中，得到混合溶液；

S2 将所述混合溶液加入所述含硼化合物充分反应，待反应结束后，挥发溶剂并将产物真空脱水，脱水后的产物即为所述具有低湿度敏感性高饱和吸水量的材料；

其中所述溶剂为酯类、醇类以及烷烃类的任意一种或几种。

3.根据权利要求2所述的一种具有低湿度敏感性高饱和吸水量的材料的制备方法，其特征在于，步骤S2中的反应温度为25-160°C。