[发明专利]一种超快电光调制装置与方法

权利要求书

1.一种超快电光调制装置，其特征在于，包括导电体一、导电体二和导电体三，所述导电体一与导电体二组成天线结构，导电体一与导电体二之间的间隙小于100纳米；

所述导电体三位于所述间隙内，与导电体一、导电体二中的一个导通，与另一个不导通；所述导电体三为微纳结构，所述微纳结构上存在曲率半径小于10纳米的部分；

所述天线结构接收外部调制电信号。

2.根据权利要求1所述的超快电光调制装置，其特征在于，导电体一和导电体二的部分或全部外部环境是真空或者其它绝缘物质。

3.根据权利要求1所述的超快电光调制装置，其特征在于，导电体一和导电体二之间的间隙为真空或者其它绝缘物质。

4.根据权利要求1所述的超快电光调制装置，其特征在于，导电体一、导电体二、导电体三为同一种导电物质，或者是不同的导电物质。

5.根据权利要求1所述的电光调制装置，其特征在于，所述调制电信号的发生源为施加于导电体一和导电体二之间的偏置电压，或者是施加于整个电光调制装置的背景电场。

6.一种权利要求1所述超快电光调制装置的电光调制方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤i、将待调制光照射到所述导电体一和导电体二组成的天线结构；

步骤ii、输入的待调制光经过天线结构增强后在所述导电体三处激发产生局域化的空间光场；

步骤iii、在所述调制电信号的发生源的作用下，所述导电体一和导电体二之间产生局部电场，所述局部电场改变导电体三中的载流子密度分布；

步骤iv、所述载流子密度变化导致所述空间光场被调制；

步骤v、被调制后的空间光场在天线结构的增强作用下辐射到远场，形成可以被外部探测装置检测到的输出光信号。

7.根据权利要求6所述的电光调制方法，其特征在于，所述待调制光是可见光或者红外波段光。