[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法

说明书

本发明提供能够稳定地使等离子体点火的等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置能够通过感应耦合在处理室内产生等离子体，所述等离子体处理装置的特征在于，包括：以能够与所述处理室内连通的方式安装在所述处理室的壁上的VUV灯；设置在所述VUV灯与所述处理室之间的开闭门，其用于对所述VUV灯与所述处理室之间进行开关；和用于将所述开闭门和所述VUV灯之间的部分与所述处理室内连接的旁通管线。

技术领域

本发明涉及等离子体处理装置和等离子体处理方法。

背景技术

例如，专利文献1提出了，为了不改变所期望的工艺条件而提高等离子体点火性能，从紫外线光源向处理室内照射脉冲调制后的紫外线。为了使从紫外线光源输出的紫外线传播到处理室内，使用了光纤。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2020-17586号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

但是，通过将紫外线的衰减抑制在最小限度而向处理室内照射紫外线，并向处理室内供给激发的电子，能够实现稳定的等离子体点火。

本发明提供能够在通过感应耦合产生等离子体的等离子体处理装置中稳定地使等离子体点火的技术。

用于解决技术问题的手段

本发明的一个方面提供一种等离子体处理装置，其能够通过感应耦合在处理室内产生等离子体，所述等离子体处理装置的特征在于，包括：以能够与所述处理室内连通的方式安装在所述处理室的壁上的VUV灯；设置在所述VUV灯与所述处理室之间的开闭门，其用于对所述VUV灯与所述处理室之间进行开关；和用于将所述开闭门和所述VUV灯之间的部分与所述处理室内连接的旁通管线。

发明效果

采用本发明的一个方面，能够在通过感应耦合产生等离子体的等离子体处理装置中稳定地使等离子体点火。

附图说明

图1是表示实施方式的等离子体处理装置的一个例子的截面示意图。

图2是表示实施方式的VUV光源单元的放大立体图的一个例子的图。

图3是表示利用实施方式的VUV光源单元进行的等离子体点火的实施例1的图。

图4是表示利用实施方式的VUV光源单元进行的等离子体点火的实施例2的图。

图5是表示利用实施方式的静电卡盘和VUV光源单元进行的等离子体点火的实施例3的图。

图6是用于对实施方式的VUV光的照射和等离子体点火进行说明的图。

图7是表示实施方式的等离子体处理方法的一个例子的时序图。

附图标记说明

1处理容器，2金属窗，3天线室，4处理室，6绝缘物，10等离子体处理装置，13高频天线，15第一高频电源，16供电部件，20处理气体供给部，23基台，26静电卡盘，29第二高频电源，30排气装置，32挡板，33观察窗，34 VUV光源单元，35 VUV灯，36固定部，37开闭门，38旁通管线，39旁通阀，47直流电源，G被处理基片，ST载置台。

具体实施方式

下面，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明。在各附图中，存在对于相同的构成部分标注相同的附图标记而省略重复说明的情况。

[等离子体处理装置]