[发明专利]液晶移相器移相灰度曲线测试装置及方法

说明书

本发明公开了一种液晶移相器移相灰度曲线测试装置及方法，包括耦合探测结构和液晶盒，耦合探测结构包括接地探针引脚、耦合探测接地片、信号探针引脚和耦合探测辐射片，耦合探测辐射片设置在耦合探测接地片中间，接地探针引脚与耦合探测接地片连接，信号探针引脚与耦合探测辐射片连接，液晶盒设有耦合缝隙和对位标识；本发明采用可移动式耦合探测结构，实现所有或大部分液晶移相器频率响应及移相灰度测试，通过对比分析及计算，筛选出两个或以上频率的移相灰度测试结果，并计算出工作频带内任意频点的移相灰度测试结果，实现了液晶移相器高效产业化测试及计算。

技术领域

本发明涉及液晶移相器技术领域，具体涉及一种液晶移相器移相灰度曲线测试装置及方法。

背景技术

液晶相控阵天线因具有功耗小，成本低，易批量等优势成为行业热点。通常，液晶移相器由液晶材料，移相器结构及控制电极组成。控制电极加载不同的控制电压时，液晶分子相对介电常数会发生改变，进而实现移相控制。对于相控阵天线而言，移相器的频率响应曲线在天线波控系统及算法中尤为重要。频率响应曲线的产业化精确测量或者计算方法尚属空白。连续频率的频率响应曲线测量理论上无法实现，离散频率的频率测量会有测量时间与选频精度的矛盾。如何实现低选频精度与短测量时间的兼顾，成为本领域亟需解决的问题。

对于液晶移相器的产业化频率响应曲线测试尚无完整解决方案。科研上，通常采用离散频点测试方法，及在使用工作频段内选取适当的频率点数进行频率响应曲线测试。如需使用未被测试频率响应曲线的频点作为工作频点，则就近选择已被测试频率响应曲线频点的频率响应曲线，作为近似曲线进行使用。一方面，为尽可能实现频点覆盖的全面性和频率响应曲线的准确性，需要大量测试；另一方面，离散选取的测试方法不能从根本上解决使用连续工作频率的场景，特别是对于及集成化越来越高的移相器而言，由于高度集成化带来的频率响应曲线随频率变化较大，就近选取频点进行近似的方法引入的误差越来越大。

发明内容

为此，本发明实施例提供一种液晶移相器移相灰度曲线测试装置及方法，以解决现有技术存在的产业化液晶移相器频率响应曲线测试方法的空白及离散测试方法的不足的问题。

为了实现上述目的，本发明实施例提供如下技术方案：

第一方面，一种液晶移相器移相灰度曲线测试装置，包括耦合探测结构和液晶盒，所述耦合探测结构包括接地探针引脚、耦合探测接地片、信号探针引脚和耦合探测辐射片，所述耦合探测辐射片设置在所述耦合探测接地片中间，所述接地探针引脚与所述耦合探测接地片连接，所述信号探针引脚与所述耦合探测辐射片连接，所述液晶盒设有耦合缝隙和对位标识。

进一步的，所述耦合探测辐射片上设有传输线缆。

进一步的，所述耦合探测接地片为“U”型。

进一步的，所述液晶盒包括移相器层和金属地板层，所述移相器层位于所述金属地板层上层，所述移相器层上设有移相器和耦合辐射片，所述移相器与所述耦合辐射片连接，所述金属地板层设有所述耦合缝隙和所述对位标识，所述耦合缝隙与所述耦合辐射片的位置相对应。

进一步的，所述液晶盒还包括顶层玻璃、液晶层和底层玻璃，所述液晶层位于所述移相器层和所述金属地板层之间，所述顶层玻璃位于所述移相器层上层，所述底层玻璃位于所述金属地板层下层。

第二方面，一种液晶移相器移相灰度曲线测试方法，包括：

将待测液晶盒固定在夹具上；

测试系统通过对位标识确定所述液晶盒的位置；

根据所述对位标识和耦合缝隙的相对位置移动耦合探测结构，使所述耦合探测结构与所述耦合缝隙精准对位；

测试系统对输入耦合探测结构输入特定频率的测试信号，并通过输出耦合探测结构测试输出信号；

对移相器加载不同电压，进行移相灰度测试。