[发明专利]一种双工作台光学散射测量系统

权利要求书

1.一种双工作台光学散射测量系统，其特征在于，包括：控制系统、第一角位置传感器、第二角位置传感器，以及从内向外依次同心设置的样品转台、内转台和外转台；

所述样品转台用于放置待测样品；

所述内转台上安装有光源组件和对准装置，所述光源组件包括光源支架和激光源，所述激光源安装在所述光源支架上；所述对准装置设置在所述激光源的光路上，所述对准装置用于对所述待测样品的入射光线进行对准调整；

所述外转台上安装有检测组件，所述检测组件包括检测装置支架和探测器，所述探测器安装在所述检测装置支架上；所述检测组件用于对所述待测样品进行测量；

所述样品转台、所述内转台和所述外转台分别按照预设的旋转角度进行转动，以调整所述待测样品的入射光线的入射角和测量角，并调节入射光线的对准角度；

所述第一角位置传感器用于获取所述内转台旋转时的角位置信息，并将获取的角位置信息反馈至所述内转台的转台动力源，形成闭环负反馈；所述第二角位置传感器用于获取所述外转台旋转时的角位置信息，并将获取的角位置信息反馈至所述外转台的转台动力源，形成闭环负反馈；

所述控制系统包括微机处理器、外部输入设备、误差分析装置和隔离保护装置；所述外部输入设备与所述微机处理器连接，所述微机处理器的输出端分别与所述内转台的转台动力源、所述外转台的转台动力源、所述第一角位置传感器的动力源、所述第二角位置传感器的动力源连接，上述两个角位置传感器的输出端、所述误差分析装置、所述隔离保护装置依次连接；所述误差分析装置用于根据所述内转台旋转时的角位置信息和所述外转台旋转时的角位置信息得到反馈误差信号；所述隔离保护装置用于对所述反馈误差信号进行隔离保护；所述微机处理器用于接收来自所述外部输入设备的外部输入信息，用于接收隔离保护后的反馈误差信号，用于根据所述外部输入信息和所述反馈误差信号调整控制参数并输出；所述控制参数包括各转台的转动方向、转动角度，以及所述内转台与所述外转台之间相对位置的定位精度。

2.根据权利要求1所述的双工作台光学散射测量系统，其特征在于，所述光源支架的高度可调。

3.根据权利要求1所述的双工作台光学散射测量系统，其特征在于，所述检测装置支架上布设有至少一条水平槽道和至少一条垂直槽道，所述探测器在所述检测装置支架上的位置可调。

4.根据权利要求1所述的双工作台光学散射测量系统，其特征在于，所述外转台和所述内转台均采用二级减速传动装置；所述二级减速传动装置包括一级减速装置和二级减速装置，所述一级减速装置采用同步带轮传动，所述二级减速装置采用蜗轮蜗杆传动；

所述内转台采用第一步进电机作为转台动力源，所述第一步进电机与第一电机驱动器连接；所述外转台采用第二步进电机作为转台动力源，所述第二步进电机与第二电机驱动器连接。

5.根据权利要求1所述的双工作台光学散射测量系统，其特征在于，所述外转台和所述内转台均由专供回转工作台高精密级别的轴承进行支撑；所述专供回转工作台高精密级别的轴承采用交叉圆柱滚子轴承、ZKLDF四点球接触轴承或YRT转台轴承。

6.根据权利要求1所述的双工作台光学散射测量系统，其特征在于，还包括：台体；所述样品转台、所述内转台和所述外转台均安装在所述台体上。

7.根据权利要求6所述的双工作台光学散射测量系统，其特征在于，所述第一角位置传感器安装在所述内转台与所述台体之间，所述第二角位置传感器安装在所述外转台与所述台体之间。

8.根据权利要求7所述的双工作台光学散射测量系统，其特征在于，所述第一角位置传感器采用旋转变压器、感应同步器或光栅编码器中的任一种，所述第二角位置传感器采用旋转变压器、感应同步器或光栅编码器中的任一种。

9.根据权利要求1所述的双工作台光学散射测量系统，其特征在于，所述双工作台光学散射测量系统可进行θ-nθ的联动测量，n为非零的任意数值，当n为负数时，负号表示所述外转台与所述内转台的旋转方向相反；进行θ-nθ的联动测量时，入射光线随着所述光源组件和所述对准装置的旋转绕转台的轴中心O轴作θ转动，所述探测器绕转台的轴中心O轴作nθ转动，所述内转台和所述外转台的转动角速度的比值为1:n。