[发明专利]一种用于真空设备中基片加热的加热器

说明书

本发明公开一种用于真空设备中基片加热的加热器，包括加热单元，加热单元包括导热体，导热体的任一表面设置为平整面，平整面用于热接触被加热的基片，导热体通过粘胶封装有加热件，加热件具有引脚；电流控制单元与引脚相连，电流控制单元通过控制加热件的电流来控制加热功率；加热单元和电流控制单元均安装于固定单元上，固定单元包括放置板，加热单元设置于放置板上，放置板上设置有固定件，基片通过固定件安装于平整面上。本发明公开的用于真空设备中基片加热的加热器，其是一种能用于不同的环境氛围的加热器，其具有更低的成本，以及更高的兼容性，能满足各种需要。

技术领域

本发明涉及薄膜材料以及相关的应用科学领域，特别是涉及一种用于真空设备中基片加热的加热器。

背景技术

薄膜材料以及相关的应用科学是一门新兴而蓬勃发展的领域。纳米技术是当今各个国家都重点发展的技术，而其薄膜技术是纳米材料技术中重要且相对成熟的分支。不论是在学术界，还是在工业界，大量的精力用于研究薄膜材料的生长和制备以及性质的研究。当前薄膜制备手段很多，殊如脉冲激光沉积(PLD)，磁控溅射，热蒸发，化学气相沉积(CVD)等。这些技术手段各有优点，用于制备不同需要的薄膜。而薄膜生长多需要在一定的基片温度下进行，低至100摄氏度，高至1000摄氏度。生长的气体氛围也与生长的薄膜以及计量比的控制需求有关，有还原性气体氛围，也有强氧化性气体氛围，也有真空状态。这对加热基本的加热器提出了严格的要求。当前工业界主要的加热技术有激光加热和pyrolyticboron nitride(PBN)加热器。激光加热器很昂贵，而且对系统兼容器不好，需要光路设计。PBN加热器相对便宜，但不适用于臭氧氛围，有可能有污染性气体释放，造成薄膜污染。因此目前亟需一种新型的用于真空设备中基片加热的加热器。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于真空设备中基片加热的加热器，以解决上述现有技术存在的问题，使其具有低成本、高兼容性的特点，并且能用于不同的环境氛围。

为实现上述目的，本发明提供了如下方案：本发明提供一种用于真空设备中基片加热的加热器，包括：

加热单元，所述加热单元包括导热体，所述导热体的任一表面设置为平整面，所述平整面用于热接触被加热的基片，所述导热体通过粘胶封装有加热件，所述加热件具有引脚；

电流控制单元，所述电流控制单元与所述引脚相连，所述电流控制单元通过控制所述加热件的电流来控制加热功率；

固定单元，所述加热单元和所述电流控制单元均安装于所述固定单元上，所述固定单元包括放置板，所述加热单元设置于所述放置板上，所述放置板上设置有固定件，基片通过所述固定件安装于所述平整面上。

优选的，所述导热体包括至少两层导热层，且相邻的所述导热层之间设置有间隙，位于最外层的任一所述导热层设置有所述平整面，所述加热件通过粘胶封装于相邻的所述导热层之间，所述引脚沿所述导热层之间的间隙伸出。

优选的，所述导热层包括陶瓷板，所述陶瓷板为矩形板结构，所述陶瓷板的数量为两个，任一所述陶瓷板设置有所述平整面，另一所述陶瓷板设置于所述放置板上。

优选的，所述加热件包括加热丝和设置于所述加热丝端部的所述引脚，所述加热丝通过陶瓷胶封装于两个所述陶瓷板之间，所述电流控制单元通过控制所述加热丝的电流来控制加热功率，所述加热丝设置有多个相互连接的折弯段，多个所述折弯段之间相互平行，多个所述折弯段沿所述陶瓷板的长度方向顺序排列，且每个所述折弯段的长度与所述陶瓷板的宽度相适配。

优选的，所述电流控制单元包括至少两个电极，所述引脚与所述电极之间电连接。

优选的，所述固定单元还包括基座，所述电极设置于所述基座与所述放置板之间，所述基座可拆卸连接于样品台上，所述样品台上设有电极刷，所述电极刷用于接触所述电极。