[发明专利]一种用于真空设备中基片加热的加热器

权利要求书

1.一种用于真空设备中基片加热的加热器，其特征在于，包括：

加热单元，所述加热单元包括导热体，所述导热体的任一表面设置为平整面，所述平整面用于热接触被加热的基片，所述导热体通过粘胶封装有加热件，所述加热件具有引脚(1)；

电流控制单元，所述电流控制单元与所述引脚(1)相连，所述电流控制单元通过控制所述加热件的电流来控制加热功率；

固定单元，所述加热单元和所述电流控制单元均安装于所述固定单元上，所述固定单元包括放置板(2)，所述加热单元设置于所述放置板(2)上，所述放置板(2)上设置有固定件，基片通过所述固定件安装于所述平整面上；

所述导热体包括至少两层导热层，且相邻的所述导热层之间设置有间隙，位于最外层的任一所述导热层设置有所述平整面，所述加热件通过粘胶封装于相邻的所述导热层之间，所述引脚(1)沿所述导热层之间的间隙伸出；

所述导热层包括陶瓷板(3)，所述陶瓷板(3)为矩形板结构，所述陶瓷板(3)的数量为两个，一个所述陶瓷板(3)设置有所述平整面，另一所述陶瓷板(3)设置于所述放置板(2)上；

所述加热件包括加热丝(4)和设置于所述加热丝(4)端部的所述引脚(1)，所述加热丝(4)通过陶瓷胶(5)封装于两个所述陶瓷板(3)之间，所述电流控制单元通过控制所述加热丝(4)的电流来控制加热功率，所述加热丝(4)设置有多个相互连接的折弯段，多个所述折弯段之间相互平行，多个所述折弯段沿所述陶瓷板(3)的长度方向顺序排列，且每个所述折弯段的长度与所述陶瓷板(3)的宽度相适配；

所述电流控制单元包括至少两个电极(6)，所述引脚(1)与所述电极(6)之间电连接；

所述固定单元还包括基座(7)，所述电极(6)设置于所述基座(7)与所述放置板(2)之间，所述基座(7)可拆卸连接于样品台上，所述样品台上设有电极刷，所述电极刷用于接触所述电极(6)；

所述放置板(2)上贯穿开设有通槽(8)，所述加热单元设置于所述通槽(8)处，且所述通槽(8)的尺寸大于所述陶瓷板(3)的尺寸，所述通槽(8)的边角处固定有搭接台(9)，未设置所述平整面的所述陶瓷板(3)的边角搭接于所述搭接台(9)上。

2.根据权利要求1所述的用于真空设备中基片加热的加热器，其特征在于：所述通槽(8)的四周设置有多个螺柱(10)，所述螺柱(10)依次贯穿所述放置板(2)、所述电极(6)和所述基座(7)，所述固定件包括至少两个压片(11)，所述压片(11)将基片压合于所述平整面上，所述螺柱(10)贯穿所述压片(11)，且所述螺柱(10)与所述压片(11)之间设有压紧螺母(12)，所述放置板(2)与所述电极(6)之间的所述螺柱(10)部分设置有两个压紧螺母(12)，所述电极(6)与所述基座(7)之间设置有压紧螺母(12)。

3.根据权利要求2所述的用于真空设备中基片加热的加热器，其特征在于：所述压紧螺母(12)与所述电极(6)之间压合有绝缘陶瓷垫片(13)。

4.根据权利要求2所述的用于真空设备中基片加热的加热器，其特征在于：所述压片(11)的数量为两个，两个所述压片(11)均位于所述平整面的上方，且两个所述压片(11)对称设置。