[发明专利]光学层叠体、物品

说明书

该光学层叠体具有透明基材、设置于所述透明基材的至少一个表面的密合层、以及设置于所述密合层的与所述透明基材相反一侧的表面的光学层，所述密合层由金属材料构成，所述金属材料的熔点在100℃以上700℃以下的范围内。

技术领域

本发明涉及光学层叠体以及具备该光学层叠体的物品。

本申请基于2020年11月30日在日本申请的特愿2020-198569号、以及2021年10月1日在日本申请的特愿2021-162899号主张优先权，并将其内容引用于此。

背景技术

一直以来，将光的波长程度的厚度的透明材料重叠多层而成的光学多层膜被应用于各种领域。特别是通过使反射的相位错开来减少表面上的光反射的防反射膜、仅使特定的波长透过或反射的波长选择膜等被应用于照相机的透镜、窗玻璃等。另外，电视等的显示器有时由于外部光的反射而难以看到显示内容，通过设置防反射膜，能够提高视觉辨认性。

随着近年来的电子技术的发展，在可携带的设备上搭载显示器的情况变多，在笔记本型个人计算机、智能手机等上搭载高精细的显示器。进而，最近，汽车的IT化发展，不仅搭载以往的速度计，还搭载显示各种信息的多个显示器。

对于这样的用途，从可携带的观点出发，期望轻量化，要求在膜上而非以往的玻璃上形成防反射膜。另外，即使显示器由玻璃构成，在可能破裂的情况下，也会通过在表面预先贴合膜来防止飞散，因此大多粘贴防反射膜。

作为光学多层膜的实现方法，有在大气中涂布折射率不同的材料的湿式法、以及在真空中使成膜材料飞散而成膜的干式法。湿式法虽然简便，但能够涂布的材料有限，难以形成具有光学多层膜所需的光学特性的层，并且难以层叠多个层。与此相对，在真空中成膜的方法能够多次层叠多种多样的材料。干式成膜法有几种方法，特别是对于在真空中使用等离子体的溅射法而言，即使是熔点高的材料也能够成膜，具有能够确保膜厚的均匀性等各种优点，因此被广泛用于光学薄膜的成膜。

另外，若使用溅射法，则能够实现长时间、均匀的膜厚分布，因此将其与膜输送装置组合而成的辊对辊溅射装置能够1次性进行大面积的成膜，具有工业上的优点。

然而，在膜上形成光学多层膜的情况下，多数情况下作为基材的膜为树脂(高分子)而形成光学多层膜的光学薄膜主要为氧化物，因此基材与薄膜之间的密合成为课题。从原理上而言，树脂为有机物，主要是基于共价键的结合，而氧化物为离子键性的结合，在它们的界面上结合形式不同，因此无法得到牢固的结合形式。另外，一般而言，膜表面附着有各种吸附分子，即使暴露于真空中，膜本身的表面也不会露出。从工业方面而言有时在膜表面附着有污垢等附着物，从制造膜方面而言有时不得不有意地涂布脱模剂等，这些也成为降低密合性的主要原因。

因此，需要改善树脂基板与氧化物的密合性。提出了各种方法，例如可以举出：使表面的粗糙度变大而使用所谓的锚固效应来物理性地提高密合性的方法；为了除去表面的污垢而以湿式对膜表面进行清洗的方法；在基板表面预先导入容易与氧化物结合的羟基等极性基团等。

另外，使等离子体与膜表面接触而除去膜表面的污垢并且在膜表面形成极性基团、自由基的等离子体处理具有不会大幅改变表面的粗糙度、并且不包括干燥等工序等优点，从而被广泛使用。特别是在上述辊对辊装置中，能够在对膜进行等离子体处理后连续地形成薄膜等优点也较多(专利文献1)。

进而，还研究了在膜表面导入促进树脂与氧化物的接合的密合层。特别是硅由于具有金属特性且结合为共价键，因此与树脂的亲和性强。另外，出于增加表面硬度的目的和提高滑动性的目的，基板侧也多数预先形成有包含无机填料的硬涂层，但该无机填料也大多使用SiO₂，能够在填料的表面与硅的密合层之间带来较强的密合力(专利文献2)。进而，为了在形成厚的密合层的同时改善光学特性，也有使用在硅成膜时导入极微量的氧而实现部分氧缺损的状态的二氧化硅(SiOx：x＝1～2)的例子(专利文献3)。

现有技术文献

专利文献