[发明专利]有机导电膜的制造方法、有机导电膜以及层叠体

说明书

一种有机导电膜的制造方法，包括：制备包含酸系有机导电性高分子、碱中和剂以及液体介质且在25℃的pH为4.0～6.5的涂液的工序；将涂液涂布在基材层上的工序；以及从所涂布的涂液中除去液体介质的工序。

技术领域

本公开涉及有机导电膜的制造方法、有机导电膜以及层叠体。

背景技术

近年来，液晶显示装置、电致发光显示器、太阳能电池、触摸面板等广泛普及，在这些当中，作为透明电极，使用在膜上层叠ITO(氧化铟锡)而成的电极。然而，作为ITO的材料的铟存在世界性资源枯竭和安全性的担忧，正在研究作为替代的有机系材料。作为这样的有机系材料，可以列举出π共轭系导电性高分子，具体而言，可以列举出聚噻吩系导电性高分子。

关于形成π共轭系导电性高分子膜的技术，已知使用包含π共轭系导电性高分子的导电性高分子溶液(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-105718号公报

发明内容

本发明所要解决的课题

然而，在根据专利文献1制备溶液的情况下，包含酸系有机导电性高分子的溶液因其组成而有时表现出强酸性。在这种情况下，从安全性确保和加工装置的腐蚀抑制等观点来看，考虑使用中和剂等来将溶液的pH调节至中性附近。然而，根据本发明人的见解，使用这样调节了pH的溶液形成的导电性的高分子层的耐光性不充分。

本公开是鉴于上述情况而完成的，目的在于提供耐光性优异的有机导电膜的制造方法。本公开的另一个目的在于提供耐光性优异的有机导电膜。

用于解决课题的手段

本发明人经过深入研究，结果表明：残留在由包含酸系有机导电性高分子的溶液形成的导电层中的来自碱中和剂的成分的量对耐光性产生影响。在这一见解下，本发明人最终完成了本发明。

本公开的一个方面涉及的有机导电膜的制造方法包括：制备包含酸系有机导电性高分子、碱中和剂以及液体介质且在25℃的pH为4.0～6.5的涂液的工序；将涂液涂布在基材层上的工序；以及从所涂布的涂液中除去液体介质的工序。通过使用这样调节了pH的涂液，如后所述可以适当控制酸系有机导电性高分子层中的来自碱中和剂的阳离子含量，结果能够制造耐光性优异的有机导电膜。根据本发明人的研究可知：这样，除了pH不会过高、即来自碱中和剂的阳离子含量没有过多以外，pH不会过低、即来自碱中和剂的阳离子含量不会过少也是重要的。

在制造方法的一个方式中，酸系有机导电性高分子可以包含聚噻吩系导电性高分子。

在制造方法的一个方式中，碱中和剂可以包含氨水。

本公开的一个方面涉及的有机导电膜具备基材层和基材层上的酸系有机导电性高分子层，酸系有机导电性高分子层中的来自碱中和剂的阳离子含量为0.5～5.0mg/cm³。通过将酸系有机导电性高分子层中的来自碱中和剂的阳离子含量设在0.5～5.0mg/cm³的范围内，可以得到耐光性优异的有机导电膜。

在有机导电膜的一个方式中，酸系有机导电性高分子可以包含聚噻吩系导电性高分子。

在有机导电膜的一个方式中，来自碱中和剂的阳离子可以包含铵离子。

在有机导电膜的一个方式中，基材层可以包含树脂基材或玻璃基材。

在一个方式中，有机导电膜可以用作电磁波抑制片的电阻覆膜或电子器件中的电路材料。

本发明的效果