[发明专利]包含具有多环芳族基团的添加剂的组合物

权利要求书

1.一种分散体组合物，其包含：

包含粒子的填料；

可聚合单体或低聚物；和

由式I表示的添加剂，

R1-(CH₂)_n-Y-Z

式I

其中

R1是包含10至24个芳族原子的多环芳族基团，所述芳族原子选自碳、氮、氧和硫；n是0、1、2、3、4、5、6、7或8；

Y是选自以下的官能团：酯、硫酯、酰胺、脲、硫脲、氨基甲酸酯、S-硫代氨基甲酸酯、β羟基酯、-Q-CR2R3-CR4(OH)-和-Q-SiR5R6-；Q是O、NH或S；R2、R3、R4独立地是氢、或具有1-6个碳原子的直链或支链烷基基团；R5、R6独立地是具有1-4个碳原子的烷基基团；和

Z是包含反应性官能团的基团，所述反应性官能团选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、环氧基、异氰酸酯、羟基、硫醇、羧酸、羧酸卤化物、硅烷和胺，所述反应性官能团能够参与所述可聚合单体或低聚物的聚合反应。

2.权利要求1所述的分散体，其中Y是-O-C(O)-或-O-C(O)-NH-，并且Z包括丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯或甲基苯乙烯。

3.权利要求1所述的分散体，其中所述填料选自碳纳米管、碳纳米纤维、石墨烯、炭黑及其混合物。

4.权利要求1所述的分散体，其中所述填料是导电的。

5.权利要求1所述的分散体，其还包含选自以下的液体载体：水性载体、非水性载体及其组合。

6.权利要求1所述的分散体，其中所述多环芳族基团R1包括选自以下的芳族体系：萘、苊、二氢苊、非那烯、芴、菲、蒽、萤蒽、咔唑、二苯并呋喃、二苯并噻吩、吖啶、呫吨、噻吨、苯并[c]芴、苯并[a]蒽、芘、苯并[9,10]菲、并四苯、并五苯、苯并[a]芘、苯并[e]乙烯合菲、苯并[k]萤蒽、苯并[j]萤蒽、二苯并[a,h]蒽、苝、蔻、碗烯、苯并[ghi]苝、二苯并[a,e]芘、二苯并[a,h]芘、二苯并[a,i]芘、二苯并[a,l]芘、茚并[1,2,2-c,d]芘和卟啉。

7.权利要求2所述的分散体，其中所述添加剂的多环芳族基团R1的取代基选自1-(丙烯酰氧基)甲基、1-(甲基丙烯酰氧基)甲基、2-(丙烯酰氧基)乙基、2-(甲基丙烯酰氧基)乙基、3-(丙烯酰氧基)丙基、3-(甲基丙烯酰氧基)丙基、4-(丙烯酰氧基)丁基和4-(甲基丙烯酰氧基)丁基。

8.权利要求1所述的分散体，其中所述多环芳族基团R1还包含另一个直接键合至所述添加剂的芳族环的取代基R8，所述R8选自烷基基团、卤素取代的烷基、羟烷基、烯基和卤素，其中所述烷基、卤素取代的烷基、羟烷基和烯基基团包含1至8个碳原子。

9.根据权利要求1所述的分散体组合物，其中所述可聚合单体或低聚物是选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸乙烯酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、环氧化物、异氰酸酯、羧酸、羧酸卤化物、硅烷、醇、硫醇、胺及其混合物的材料。

10.根据权利要求1所述的分散体组合物，其还包含交联剂。

11.一种聚合物膜，其通过固化权利要求1所述的分散体组合物形成。

12.权利要求11所述的聚合物膜，其中所述聚合物膜是导电膜、阻隔膜、电极、密封层、边缘密封物或粘合剂层。

13.一种聚合物零件，其通过固化权利要求1所述的分散体组合物形成。