[发明专利]固化物的制造方法、树脂组合物、显影液、层叠体的制造方法及半导体器件的制造方法

权利要求书

1.一种固化物的制造方法，其包括：

膜形成工序，将包含树脂、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物及溶剂的树脂组合物适用于基材上而形成膜；

曝光工序，选择性地曝光所述膜；

显影工序，使用显影液对所述曝光后的膜进行显影而形成图案；以及

改性工序，使所述图案改性，

所述树脂为聚酰亚胺前体，

所述树脂具有发生通过酸的作用而极性增加的反应的基团，

有机溶剂的含量相对于所述显影液的总质量为80质量％以上，

通过所述改性，所述图案相对于所述树脂组合物所包含的溶剂的溶解性降低。

2.根据权利要求1所述的固化物的制造方法，其中，

所获得的固化物的膜厚为5μm以上。

3.根据权利要求1或2所述的固化物的制造方法，其中，

所述树脂包含下述式(1)所表示的重复单元，

上述式(1)中，R¹表示4价的有机基团；多个R¹相互相同或不同；R²表示2价的有机基团；多个R²相互相同或不同；R³各自独立地表示氢原子或有机基团。

4.根据权利要求3所述的固化物的制造方法，其中，

所述式(1)所表示的重复单元具有所述发生通过酸的作用而极性增加的反应的基团。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的固化物的制造方法，其中，

所述树脂组合物还包含酸捕捉剂。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的固化物的制造方法，其中，

所述显影液包含80质量％以上的有机溶剂，该有机溶剂的汉森溶解度参数的氢键项dH的值为8以下。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的固化物的制造方法，其中，

所述发生通过酸的作用而极性增加的反应的基团为下述式(A-1)或下述式(A-2)所表示的基团，

式(A-1)中，R^A1～R^A5分别独立地表示氢原子或1价的有机基团，R^A1～R^A5中的至少两个任选地键合而形成环结构，*表示与其他结构的键合位置；

式(A-2)中，R^A6～R^A8分别独立地表示1价的有机基团，R^A6～R^A8中的至少两个任选地键合而形成环结构，*表示与其他结构的键合位置。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的固化物的制造方法，其在所述改性工序中，对所述图案进行加热。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的固化物的制造方法，其在所述曝光工序之后且在所述显影工序之前，还包括对所述膜进行加热的工序。

10.一种层叠体的制造方法，其包括重复多次权利要求1至9中任一项所述的固化物的制造方法的工序。

11.根据权利要求10所述的层叠体的制造方法，其在多次进行的固化物的制造方法期间，还包括在包含固化物的层上形成金属层的金属层形成工序。

12.一种电子器件的制造方法，其包含权利要求1至9中任一项所述的固化物的制造方法或权利要求10或11所述的层叠体的制造方法作为工序。

13.一种树脂组合物，其用于权利要求1至9中任一项所述的固化物的制造方法。

14.一种显影液，其用于权利要求1至9中任一项所述的固化物的制造方法。