[发明专利]纳米孔支撑结构及其制造

权利要求书

1.一种纳米孔支撑结构，其包括：

壁层，所述壁层包括界定多个阱的壁；以及

悬垂物，所述悬垂物从所述壁跨所述阱中的每一个延伸，所述悬垂物界定配置成支撑适用于插入纳米孔的隔膜的孔隙。

2.根据权利要求1所述的纳米孔支撑结构，其进一步包括在所述悬垂物的范围横向地突出的突起。

3.根据权利要求2所述的纳米孔支撑结构，其中所述突起包含在相应阱内部的所述悬垂物的所述范围横向地突出的内突起。

4.根据权利要求2或3所述的纳米孔支撑结构，其中所述突起包含在所述相应阱外部的所述悬垂物的所述范围横向地突出的外突起，和/或其中所述纳米孔支撑结构包括在所述阱之间的所述壁层的外表面的所述范围横向地突出的外突起。

5.根据权利要求4所述的纳米孔支撑结构，其中，对于每个孔隙，所述外突起界定至少部分地围绕所述孔隙且从所述孔隙后移的相应突起壁。

6.根据权利要求5所述的纳米孔支撑结构，其中所述突起壁部分地围绕所述孔隙且在其中具有间隙。

7.根据权利要求5或权利要求6所述的纳米孔支撑结构，其中每个突起壁配置成使得弯月面能够跨所述相应孔隙形成，使得所述弯月面至少部分地延伸到所述相应孔隙中。

8.根据权利要求5至7中任一权利要求所述的纳米孔支撑结构，其中所述突起壁围绕所述孔隙的75％到95％。

9.根据权利要求5至8中任一权利要求所述的纳米孔支撑结构，对于每个孔隙，其包括多个周边外突起，所述周边外突起包括面向所述孔隙界定所述突起壁的内表面，和背对所述孔隙的外表面。

10.根据权利要求9所述的纳米孔支撑结构，其中所述外表面包括微图案化结构。

11.根据权利要求9或权利要求10所述的纳米孔支撑结构，其进一步包括布置在所述周边外突起之间的区域中的中间外突起。

12.根据权利要求11所述的纳米孔支撑结构，其中所述中间外突起中的一个或多个包括微图案化结构。

13.根据权利要求2至12中任一权利要求所述的纳米孔支撑结构，其中所述突起布置成增加所述悬垂物对非极性介质的保持。

14.根据权利要求2至513中任一权利要求所述的纳米孔支撑结构，其中所述突起布置成增加所述悬垂物的刚度。

15.根据前述权利要求中任一权利要求所述的纳米孔支撑结构，其中所述阱具有相应基底。

16.根据权利要求15所述的纳米孔支撑结构，其中所述壁层进一步界定所述基底。

17.根据权利要求15所述的纳米孔支撑结构，其中所述纳米孔支撑结构进一步包括衬底，所述壁层固定到所述衬底且所述衬底界定所述阱的所述基底。

18.根据前述权利要求中任一权利要求所述的纳米孔支撑结构，其中所述悬垂物和所述壁层包括固化的负性光致抗蚀剂材料。

19.根据权利要求18所述的纳米孔支撑结构，其进一步包括设置在所述阱中的屏障，所述屏障能够减少用于固化所述负性光致抗蚀剂材料的波长的电磁辐射的散射。

20.根据权利要求19所述的纳米孔支撑结构，其中所述阱具有相应基底且所述屏障从所述基底延伸到所述悬垂物。