[发明专利]使用晶体分析器和多个检测器元件的X射线吸收光谱的系统和方法在审
申请号: | 202180036021.7 | 申请日: | 2021-05-14 |
公开(公告)号: | CN115667896A | 公开(公告)日: | 2023-01-31 |
发明(设计)人: | 云文兵;斯里瓦特桑·塞沙德里;乔瑞敏;雅诺什·科瑞;西尔维娅·贾·云·路易斯 | 申请(专利权)人: | 斯格瑞公司 |
主分类号: | G01N23/083 | 分类号: | G01N23/083;G01N23/207;G01N23/20008;G21K1/06 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 朱亦林 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 晶体 分析器 检测器 元件 射线 吸收光谱 系统 方法 | ||
一种装置包括晶体分析器,该晶体分析器相对于x射线源定位在切面中的罗兰圆上并具有罗兰圆半径(R)。晶体分析器包括至少在切面内沿至少一个方向弯曲的晶面,其曲率半径基本上等于罗兰圆半径的两倍(2R)。晶面被配置为接收来自x射线源的x射线,并根据布拉格定律分散接收的x射线。该装置还包括被配置为接收至少一部分分散x射线的空间分辨检测器。空间分辨检测器包括多个具有可调的第一x射线能量和/或可调的第二x射线能量的x射线检测元件。多个x射线检测元件被配置为:测量所接收的具有低于第一x射线能量的x射线能量的分散x射线,同时抑制对所接收的高于第一x射线能量的分散x射线的测量;和/或测量所接收的具有高于第二x射线能量的x射线能量的分散x射线,同时抑制对所接收的低于第二x射线能量的分散x射线的测量。第一x射线能量和第二x射线能量在1.5keV至30keV的范围内可调。
本申请要求于2020年5月18日提交的第63/026,613号美国临时申请的优先权,并且通过引用以其全文并入本文。
技术领域
本申请总体上涉及x射线吸收光谱系统。
背景技术
x射线吸收光谱(XAS)是一种广泛用于确定物质的局部原子几何状态和/或电子状态的技术。XAS数据通常通过将光子能量调节(常常使用晶体单色仪)到可以激发芯电子的范围(1-30keV)来获得。这些边部分是根据激发的芯电子来命名的:主量子数n=1、2和3分别对应于K边、L边和M边。例如,1s电子的激发发生在K边,而2s或2p电子的激发发生在L边。
XAS测量材料基质中元素的x射线吸收响应,其能量范围跨越该元素的(一个或多个)吸收边中的一个,分别包括K边、L边和M边。在XAS光谱中有三个主要的光谱区域:1)峰值吸收能量(白线)之前的边前光谱区;2)x射线吸收近边结构(XANES)区,也称为NEXAFS(近边x射线吸收精细结构),其能量范围从白线以上约10eV到约150eV,以及3)EXAFS(扩展x射线吸收精细结构)区,其能量范围达吸收边以上1000eV并包括吸收边在内。
透射模式XAS测量透过包含感兴趣的元素的物体的x射线。根据XAS光谱的光谱区域和吸收边的能量,以足够高的x射线能量分辨率(例如,范围从0.3eV到10eV)测量XAS光谱。对于在宽能量带宽上发射x射线的x射线源,通常使用单晶分析器根据布拉格定律选择窄能量带宽:
2d·sinθ=nλ (1)
其中,d为晶体分析器的晶格间距,θ为布拉格角,n为整数,λ为满足布拉格定律的x射线波长。由晶体分析器的较高米勒指数晶面衍射的波长等于λ/n的x射线被称为高次谐波。此外,具有较大d间距的较低米勒指数晶面反射的具有成正比的(一个或多个)大波长的x射线被称为低次谐波。
发明内容
在本文所述的某些实施方式中,一种装置包括x射线源,该x射线源包括被配置为在电子轰击时生成x射线的靶。该装置还包括相对于x射线源定位在切面中的罗兰圆上并具有罗兰圆半径(R)的晶体分析器。晶体分析器包括至少在切面内沿至少一个方向弯曲的晶面,其曲率半径基本上等于罗兰圆半径的两倍(2R)。晶面被配置为接收来自x射线源的x射线,并根据布拉格定律分散所接收的x射线。该装置还包括被配置为接收至少一部分分散x射线的空间分辨检测器。空间分辨检测器包括具有可调的第一x射线能量和/或可调的第二x射线能量的多个x射线检测元件。多个x射线检测元件被配置为:测量所接收的具有低于第一x射线能量的x射线能量的分散x射线,同时抑制对所接收的高于第一x射线能量的分散x射线的测量;和/或测量所接收的具有高于第二x射线能量的x射线能量的分散x射线,同时抑制对所接收的低于第二x射线能量的分散x射线的测量。第一x射线能量和第二x射线能量在1.5keV至30keV的范围内可调。
在本文所述的某些实施方式中,荧光模式x射线吸收光谱装置包括x射线源、晶体和检测器。源和晶体定义了罗兰圆。该装置被配置为在罗兰圆的焦点处接收样本,其中,检测器面向样本的表面。
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