[发明专利]氟化光引发剂和使用其制备的氟化(共)聚合物层

说明书

本发明描述了氟化光引发剂和包含此类氟化光引发剂和至少一种可自由基聚合的单体、低聚物或它们的混合物的可聚合组合物。还描述了多层膜，该多层膜包括基底和覆盖所述基底的表面的至少第一层，其中该至少第一层包含通过聚合前述可聚合组合物获得的(共)聚合物。还教导了使用可聚合组合物制备多层膜的方法。还公开了包括多层膜的制品，其中该制品优选地选自光伏装置、显示装置、固态照明装置、传感器、医疗或生物诊断装置、电致变色装置、光控装置或它们的组合。

技术领域

本公开涉及氟化光引发剂和使用氟化光引发剂在多层膜，更具体地讲多层光学膜中形成氟化(共)聚合物层的方法。

背景技术

交联(共)聚合物层已在用于电学、包装和装饰应用的薄膜中使用。这些层可提供所需的特性，诸如所需的光学特性、机械强度、耐热性、耐化学品性、耐磨性、透明度、折射率和清晰度。结合有交联(共)聚合物层的多层光学膜也是已知的。

此类多层膜可以使用多种生产方法制备。这些方法包括液体涂布技术，诸如溶液涂布、辊涂、浸涂、喷涂、旋涂；以及干涂布技术，诸如单体蒸发和固化、化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、引发化学气相沉积(iCVD)、等离子体聚合和分子层沉积(MLD)。用于制备多层光学膜的一种方法是制备散布有(共)聚合物光学层的无机光学层，诸如氧化铝、氧化硅、氧化钛或氮化硅。可以使用多种方法沉积无机层，包括CVD、PECVD、原子层沉积(ALD)、溅射和用于固体材料的热或电子束蒸发的真空工艺。

此类多层膜和用于形成此类膜的方法的示例可见于例如美国专利5,877,895(Shaw等人)；6,815,043(Fleming等人)；6,838,183(Yializis)；6,929,864(Fleming等人)；7,215,473(Fleming)；US20160306084(Padiyath等人)中。这些多层膜在显示器、光学器件、照明、化学传感器、生物传感器/诊断和太阳能市场中具有许多应用。

发明内容

本公开描述了氟化光引发剂的合成，该氟化光引发剂用于制备可用于多层膜应用的氟化(共)聚合物。这些氟化光引发剂通常(1)可溶于氟化单体、低聚物和聚合物中并与之相容，(2)在用光化辐射诸如紫外光或可见光(UV-VIS)照射时能够快速引发自由基聚合，(3)还能够快速化学键合到可自由基聚合的氟化单体、低聚物和(共)聚合物(例如六氟环氧丙烷(HFPO)-二丙烯酸酯单体、低聚物和(共)聚合物)上，以及(4)不会导致所形成的氟化(共)聚合物层的低折射率显著增加。这些特性的组合使得这些氟化光引发剂可用于在氟化材料通常不相容的表面(例如，无机层，诸如二氧化硅)上产生坚固的、化学键合的氟化(共)聚合物层或膜。

因此，在一个方面，本公开描述了具有下式的氟化光引发剂：

其中：

X³¹、X³²、X³³、X³⁴、X³⁵各自独立地选自-H、-F或-CF₃，条件是X³¹、X³²、X³³、X³⁴、X³⁵中的至少三者是-F，或者X³¹、X³²、X³³、X³⁴、X³⁵中的至少一者是-CF₃；

Y³¹、Y³²、Y³³、Y³⁴、Y³⁵各自独立地选自-H或CH₃；并且

R³¹是1至4个碳原子的烷基基团。