[发明专利]机械绝缘设备的污染屏蔽件

说明书

一种装置包括：机械绝缘设备，该机械绝缘设备具有柔性波纹管(315)，该柔性波纹管(315)在第一凸缘和第二凸缘(325、330)之间延伸，该柔性波纹管(315)限定波纹管通道，该波纹管通道沿着轴向方向在第一凸缘的开口和第二凸缘的开口之间延伸；内刚性套筒(335)，该内刚性套筒(335)附连到第一凸缘或由第一凸缘支撑，并且在轴向方向上沿着波纹管通道延伸；以及屏蔽设备(340，包括即342、344)。内刚性套筒的外径小于柔性波纹管的内径。屏蔽设备至少部分地固定到第二凸缘或由第二凸缘支撑并且限定轴向设备开口，该轴向设备开口的直径小于柔性波纹管的内径并且大于内刚性套筒的外径。该屏蔽设备被配置为阻止微粒进入柔性波纹管与内刚性套筒之间的区域。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年5月6日提交的题为“机械绝缘设备的污染屏蔽件(CONTAMINATION SHIELD FOR MECHANICALLY INSULATING DEVICE)”的美国申请号63/020,760的优先权，该申请的全部内容通过引入并入本文。

技术领域

所公开的主题涉及一种用于屏蔽诸如柔性波纹管之类的机械绝缘设备不受不想要的材料影响的装置。

背景技术

在系统中移动的流体材料(诸如液体、气体或部分液体)可以与系统中的表面(撞击表面)碰撞。与撞击表面的碰撞可能导致材料飞溅、沉积和/或散射，并且飞溅、沉积和/或散射可能导致撞击表面和撞击表面附近的物体被污染。例如，污染可能为由于碰撞而从材料上抛出的材料块。污染物体可能会导致物体和/或整个系统的性能降低。

例如，系统可以包括诸如反射镜之类的光学元件，并且污染反射镜可能会改变反射镜的反射特性。反射镜可能为极紫外(EUV)光源中的反射镜，并且污染可能导致减少由EUV光源输出的EUV光的量。

EUV光，例如，波长为100纳米(nm)或更小(有时也称为软x射线)并且包括波长为例如20nm或更小、介于5nm与20nm之间或介于13nm与14nm之间的光的电磁辐射可以用于光刻过程，以通过在抗蚀剂层中引发聚合而在衬底(例如，硅晶片)中产生极小特征。产生EUV光的方法包括但不必限于：利用EUV范围内的发射线，将包括例如，氙、锂或锡等元素的材料转换为等离子体状态。在一种这样的方法中，通常称为激光产生的等离子体(“LPP”)的所需等离子体通过使用经放大的光束辐照靶材料(例如，形式为液滴、板、带、流或材料簇)产生。对于该过程，等离子体通常在密封容器(例如，真空腔室)中产生，并且使用各种类型的量测设备进行监测。

在操作期间，EUV光源利用并且产生气体、液体和部分液体(诸如等离子体流出物)，这些气体、液体和部分液体在部件之间输送，并且穿过为部件之间的流体流动提供导管的各种机械连接设备。

发明内容

在一些总体方面中，一种装置包括：机械绝缘设备，该机械绝缘设备具有在第一凸缘与第二凸缘之间延伸的柔性波纹管；内刚性套筒；以及屏蔽设备。柔性波纹管限定波纹管通道，该波纹管通道在第一凸缘的开口和第二凸缘的开口之间沿着轴向方向延伸。内刚性套筒附连到第一凸缘或由第一凸缘支撑，并且在轴向方向上沿着波纹管通道延伸。内刚性套筒的外径小于柔性波纹管的内径。屏蔽设备至少部分地固定到第二凸缘或由第二凸缘支撑并且限定轴向设备开口，该轴向设备开口的直径小于柔性波纹管的内径并且大于内刚性套筒的外径。该屏蔽设备被配置为实现第一凸缘与第二凸缘之间的相对运动，该相对运动包括沿着垂直于轴向方向的一个或多个方向的平移运动和围绕垂直于轴向方向的一个或多个方向的旋转运动。

各实现方式可以包括以下特征中的一个或多个特征。例如，屏蔽设备可以延伸到波纹管通道中。

柔性波纹管的内径与内刚性套筒的外径之间的距离可以大于柔性波纹管内径的约10％、大于约20％或大于约30％。