[发明专利]宽视场带电粒子过滤器

权利要求书

1.一种带电粒子过滤器，其包括：

多个磁体，其各自包括相对于由从检测器上的视场中心到平台上的视场中心的线限定的平面以一定的角倾斜的表面，其中倾斜表面被定位成形成包括磁场梯度的孔，所述磁场梯度在所述孔的靠近所述检测器的侧上的第一孔隙处最强。

2.根据权利要求1所述的带电粒子过滤器，其中：

所述倾斜表面是基本上平面的。

3.根据权利要求1所述的带电粒子过滤器，其中：

所述倾斜表面是基本上圆锥形的。

4.根据权利要求3所述的带电粒子过滤器，其中：

基本上圆锥形表面的半径与所述角有关。

5.根据权利要求1所述的带电粒子过滤器，其中：

所述倾斜表面包括5至45°范围内的角。

6.根据权利要求5所述的带电粒子过滤器，其中：

所述倾斜表面包括15.4°的角。

7.根据权利要求1所述的带电粒子过滤器，其中：

所述孔包括所述平台上的视场，所述视场由所述孔的面向所述平台的侧上的第二孔隙的直径限定。

8.根据权利要求7所述的带电粒子过滤器，其中：

所述视场的直径为约128mm。

9.根据权利要求1所述的带电粒子过滤器，其中：

所述磁场梯度包括约1000高斯至5000高斯的范围。

10.根据权利要求1所述的带电粒子过滤器，其进一步包括：

一个或多个插入件，其被配置成填充所述磁体之间的空间。

11.根据权利要求1所述的带电粒子过滤器，其进一步包括：

磁通环，其包括为了倾斜角而正确定位所述磁体的几何结构。

12.一种电子束增材制造仪器，其包括：

电子束源，其被配置成产生电子束；

平台，其被配置为支撑件，所述电子束增材制造仪器响应于所述电子束而在所述支撑件上构建产品；

检测器，其被配置成响应于一个或多个X射线光子而产生信号，所述一个或多个X射线光子是响应于所述电子束而从所述产品释放；和

带电粒子过滤器，其被配置成使响应于所述电子束而从所述产品释放的一个或多个带电粒子偏转远离所述检测器，其中所述带电粒子过滤器包括多个磁体，所述多个磁体各自包括相对于由从检测器上的视场中心到平台上的视场中心的线限定的平面以一定的角倾斜的表面，其中倾斜表面被定位成形成包括磁场梯度的孔，所述磁场梯度在所述孔的靠近所述检测器的侧上的第一孔隙处最强。

13.根据权利要求12所述的电子束增材制造仪器，其中：

所述倾斜表面是基本上平面的。

14.根据权利要求12所述的电子束增材制造仪器，其中：

所述倾斜表面是基本上圆锥形的。

15.根据权利要求14所述的电子束增材制造仪器，其中：

基本上圆锥形表面的半径与所述角有关。

16.根据权利要求12所述的电子束增材制造仪器，其中：

所述倾斜表面包括5至45°范围内的角。

17.根据权利要求16所述的电子束增材制造仪器，其中：

所述倾斜表面包括15.4°的角。

18.根据权利要求12所述的电子束增材制造仪器，其中：

所述孔包括所述平台上的视场，所述视场由所述孔的面向所述平台的侧上的第二孔隙的直径限定。