[实用新型]一种用于薄膜真空镀膜的新型传送设备

说明书

一种用于薄膜真空镀膜的新型传送设备，包括依次设置的放卷腔、工艺腔和收卷腔，工艺腔内设置有加热板；放卷腔内依次设置有放卷辊、第一支撑辊、第一调节辊，收卷腔内依次设置有第二调节辊、第二支撑辊和收卷辊；第一支撑辊与第二支撑辊的外部套设有支撑布且涨紧设置，支撑布位于加热板的上方；第一调节辊与第二调节辊均位于支撑布的下方，第一调节辊与第二调节辊均与支撑布抵触设置；第二支撑辊与收卷辊均为主动辊轴。本实用新型设计改变了传统薄膜基材悬空传送方式；解决了张力过大，引起薄膜基材褶皱变形问题；解决了张力过小，基材与加热板摩擦划伤的问题；解决了传动轴与水氧阻隔膜直接接触的问题；改善了基材进工艺腔初期温升延时的问题。

技术领域

本实用新型涉及一种传送设备，具体涉及一种用于薄膜真空镀膜的新型传送设备。

背景技术

目前，传统的真空沉积设备，如图1所示，包括依次设置的放卷腔、工艺腔和收卷腔，放卷腔内依次设置有轴1、轴2、轴3，工艺腔内设置有加热板，收卷腔内设置有轴4、轴5、轴6。从放卷腔的轴1进行薄膜基材的放卷，收卷腔的轴6主动旋转进行收卷；薄膜基材在工艺腔中通过加热板的热辐射作用进行升温，同时在工艺腔上方有反应气体进入工艺腔，进行水氧阻隔膜的沉积。

传统真空沉积设备的缺点：一、传统技术在传送过程中，使用了较多的传动辊（如图中轴2、轴3、轴4、轴5），其中轴5是和基材表面沉积的阻隔膜层直接接触；过大的压力或是滑动摩擦力都会使膜层受到致命性破坏。二、由于辊的摩擦作用，使得主动轴产生的拉紧张力，不能很好的均匀的分布于薄膜基材各个跨度上；设备通过收卷腔的主动轴提供拉紧张力，使薄膜基材近似水平状态传输；但是由于拉紧张力过大，会导致薄膜有严重变形褶皱产生；如果减少张力，薄膜基材在工艺腔中由于跨度大，会因为重力下垂过大（如图2所示）与加热板表面或是其他部件接触产生划伤，使产品外观及功能上均产生致命缺陷。三、由于薄膜基材在经过加热板上方时，通过热辐射进行加热（基材与加热板无直接接触），使得基材在刚进入工艺腔时，并没有很好的工艺温度，影响了初始膜层的性能。导致原因：一、主动轴产生的张力不能很好传送到整个基材；二、基材上表面的水氧膜不能经历变形，以及受摩擦作用影响；三、基材是通过热辐射加热的，有一定的温升延迟时间。

因此，设计了一种用于薄膜真空镀膜的新型传送设备来解决上述问题。

应该注意，上面对技术背景的介绍只是为了方便对本实用新型的技术方案进行清楚、完整的说明，并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本实用新型的背景技术部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。

发明内容

为克服上述现有技术中的不足，本实用新型目的在于提供一种用于薄膜真空镀膜的新型传送设备。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供的技术方案是：一种用于薄膜真空镀膜的新型传送设备，包括依次设置的放卷腔、工艺腔和收卷腔，所述工艺腔内设置有加热板；所述放卷腔内依次设置有放卷辊、第一支撑辊、第一调节辊，所述收卷腔内依次设置有第二调节辊、第二支撑辊和收卷辊；所述第一支撑辊与所述第二支撑辊的外部套设有支撑布且涨紧设置，所述支撑布位于所述加热板的上方；所述第一调节辊与所述第二调节辊均位于所述支撑布的下方，所述第一调节辊与所述第二调节辊均与所述支撑布抵触设置；所述第二支撑辊与所述收卷辊均为主动辊轴。

优选的技术方案为：所述第一调节辊与所述第二调节辊均可移动式设置，用于调节所述支撑布的支撑力。

优选的技术方案为：所述第一支撑辊的直径与所述第二支撑辊的直径相等。

优选的技术方案为：所述第一调节辊的直径与所述第二调节辊的直径相等。

优选的技术方案为：所述第一调节辊的直径小于所述第一支撑辊的直径，所述第一调节辊位于所述第一支撑辊的右方内侧；所述第二调节辊的直径小于所述第二支撑辊的直径，所述第二调节辊位于所述第二支撑辊的左方内侧。

优选的技术方案为：所述支撑布的外表面设置有防磨层。