[实用新型]一种基于足底压力的运动检测装置有效
| 申请号: | 202123434331.0 | 申请日: | 2021-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN216559441U | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
| 发明(设计)人: | 林海军;戴厚德;夏许可;连阳林 | 申请(专利权)人: | 福建世新机器人科技有限公司 |
| 主分类号: | G01L1/14 | 分类号: | G01L1/14;G01C21/16;G01K13/00;G01N33/00;A61B5/103 |
| 代理公司: | 泉州市文华专利代理有限公司 35205 | 代理人: | 郭若山 |
| 地址: | 362200 福建省泉州市晋*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 足底 压力 运动 检测 装置 | ||
1.一种基于足底压力的运动检测装置,其特征在于,包括压力感测单元,所述压力感测单元包括从下向上依次层叠的下金属屏蔽层、回弹填充层、中间电极层、绝缘材料层和上金属屏蔽层,所述下金属屏蔽层和所述上金属屏蔽层连接有接地线,所述下金属屏蔽层、所述回弹填充层和所述中间电极层共同构成可变电容,所述中间电极层、所述绝缘材料层和上金属屏蔽层共同构成固定电容,所述可变电容和所述固定电容并联连接。
2.如权利要求1所述的基于足底压力的运动检测装置,其特征在于,所述下金属屏蔽层的下方以及所述上金属屏蔽层的上方分别贴设有保护层。
3.如权利要求1所述的基于足底压力的运动检测装置,其特征在于,所述回弹填充层为非导电层。
4.如权利要求3所述的基于足底压力的运动检测装置,其特征在于,所述压力感测单元还包括同时穿插在所述下金属屏蔽层、所述回弹填充层、所述中间电极层、所述绝缘材料层和所述上金属屏蔽层上的导电杆,所述中间电极层与所述导电杆互不接触。
5.如权利要求1所述的基于足底压力的运动检测装置,其特征在于,所述上金属屏蔽层和所述下金属屏蔽层上分别开设有多个穿孔。
6.如权利要求1-5中任一权利要求所述的基于足底压力的运动检测装置,其特征在于,还包括基体,所述压力感测单元有多个,多个所述压力感测单元分别嵌设或一体连接在所述基体上。
7.如权利要求6所述的基于足底压力的运动检测装置,其特征在于,还包括全部嵌设在所述基体内、部分嵌设在所述基体内或位于所述基体外的采集组件,所述采集组件包括电源模块、与所述电源模块电连接的处理模块以及与所述处理模块电连接的通讯模块,所述处理模块同时与各所述压力感测单元有线通信连接或无线通讯连接。
8.如权利要求7所述的基于足底压力的运动检测装置,其特征在于,所述基体上还设置有温度传感器和/或湿度传感器。
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