[实用新型]一种新型红外探测器杜瓦冷屏有效

专利信息
申请号: 202123291247.8 申请日: 2021-12-24
公开(公告)号: CN216978145U 公开(公告)日: 2022-07-15
发明(设计)人: 吴建乐;胡明灯;熊雄;李锐平;毛剑宏 申请(专利权)人: 浙江珏芯微电子有限公司
主分类号: G01J5/06 分类号: G01J5/06;G01J5/10
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 林志豪
地址: 323000 浙江省丽水市莲都*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 红外探测器 杜瓦冷屏
【权利要求书】:

1.一种新型红外探测器杜瓦冷屏,其特征在于,包括:

自上而下依次连接的多级台阶结构,每一级所述台阶结构均至少包括一侧围,位于中部的所述台阶结构的所述侧围的下端均设有挡光环,所述挡光环的至少一部分自所述侧围的内壁向所述台阶结构的中心延伸,其中,位于最下部的所述台阶结构的下端形成焦平面,所述焦平面上设有芯片,所述焦平面的中心与所述芯片的中心重合;

其中一所述侧围上开设有排气孔,所述排气孔至该一所述侧围的下端的所述挡光环的距离h满足:

h<min{h′,h″}

其中,h′满足:

其中,h″满足:

其中,

β为开设有所述排气孔的所述侧围与其下端的所述挡光环所在的水平面之间的夹角;

h1为开设有所述排气孔的所述侧围的下一级侧围的高度;

h2为开设有所述排气孔的所述侧围的下一级侧围的下端至所述焦平面的高度;

d1为开设有所述排气孔的所述侧围的下端的所述挡光环的宽度;

d2为开设有所述排气孔的所述侧围的下一级侧围的下端的所述挡光环的宽度;

H为开设有所述排气孔的所述侧围的下一级侧围的下端的直径;

D1为开设有所述排气孔的所述侧围的下一级侧围上的经过光路的母线与所述焦平面的交点过所述焦平面的中心至所述芯片远离所述排气孔的一侧的边缘的距离;

D2为开设有所述排气孔的所述侧围上的经过所述排气孔的母线与所述焦平面的交点过所述焦平面的中心至所述芯片远离所述排气孔的一侧的边缘的距离。

2.根据权利要求1所述的新型红外探测器杜瓦冷屏,其特征在于,位于最上部的所述台阶结构的所述侧围上开设有所述排气孔。

3.根据权利要求1所述的新型红外探测器杜瓦冷屏,其特征在于,位于最上部的所述台阶结构的上表面具有滤光片安装面,所述滤光片安装面上开设有通光孔;

和/或位于最下部的所述台阶结构的下端具有冷屏安装面。

4.根据权利要求3所述的新型红外探测器杜瓦冷屏,其特征在于,所述滤光片安装面和/或所述冷屏安装面上开设有对中槽。

5.根据权利要求1所述的新型红外探测器杜瓦冷屏,其特征在于,其包括自上而下依次连接的四级台阶结构。

6.根据权利要求1所述的新型红外探测器杜瓦冷屏,其特征在于,位于最上部的所述台阶结构的所述侧围为纵截面呈倾斜设置的环状结构。

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